HOYA株式会社铃木宏太获国家专利权
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龙图腾网获悉HOYA株式会社申请的专利带多层反射膜的基板、反射型掩模坯料、反射型掩模及制造方法、及半导体装置制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112666788B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011059191.0，技术领域涉及：G03F1/24；该发明授权带多层反射膜的基板、反射型掩模坯料、反射型掩模及制造方法、及半导体装置制造方法是由铃木宏太;尾上贵弘设计研发完成，并于2020-09-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本带多层反射膜的基板、反射型掩模坯料、反射型掩模及制造方法、及半导体装置制造方法在说明书摘要公布了：本发明的课题在于提供用于制造具有对蚀刻气体的耐性高、相对于清洗的耐性高的保护膜的反射型掩模的带多层反射膜的基板。为此，本发明的带多层反射膜的基板具有基板、设置于该基板上的多层反射膜、以及设置于该多层反射膜上的保护膜，其中，上述保护膜含有钌Ru、并含有选自铝Al、钇Y、锆Zr、铑Rh及铪Hf中的至少一种添加材料，上述添加材料的含量为5原子％以上且小于50原子％。
本发明授权带多层反射膜的基板、反射型掩模坯料、反射型掩模及制造方法、及半导体装置制造方法在权利要求书中公布了：1.一种带多层反射膜的基板，其具有： 基板、设置于该基板上的多层反射膜、以及设置于该多层反射膜上的保护膜，其中，所述保护膜含有钌Ru，并含有选自铝Al、铑Rh及铪Hf中的至少一种添加材料，所述铝Al的含量为5原子%以上且40原子%以下，所述铑Rh的含量为15原子%以上且小于50原子%，所述铪Hf的含量为5原子%以上且30原子%以下。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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