伊沃克拉尔维瓦登特股份公司K·哈根布奇获国家专利权
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龙图腾网获悉伊沃克拉尔维瓦登特股份公司申请的专利立体光刻方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112698546B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011144325.9，技术领域涉及：G03F7/00；该发明授权立体光刻方法是由K·哈根布奇;C·A·黑费勒;R·弗莱设计研发完成，并于2020-10-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本立体光刻方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种立体光刻方法，所述立体光刻方法包括以下步骤：将具有填料颗粒103的光硬化的悬浮物100容纳在池105中；借助于结构平台107将光硬化的悬浮物相对于所述池105的底部109调设到小于所述填料颗粒103的直径的层厚；并且借助于光选择性地硬化所述悬浮物的所调设的层厚。
本发明授权立体光刻方法在权利要求书中公布了：1.立体光刻方法，所述立体光刻方法包括以下步骤： ‑将具有填料颗粒103的光硬化的悬浮物100容纳S101在池105中； ‑借助于结构平台107将光硬化的悬浮物相对于所述池105的底部109调设S102到小于所述填料颗粒103的直径的层厚；并且‑借助于光选择性地硬化S103所述悬浮物的所调设的层厚，‑对于接着的层，将所构造的层与所述底部109分开。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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