信越化学工业株式会社笹本纮平获国家专利权
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龙图腾网获悉信越化学工业株式会社申请的专利光掩模坯获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114326285B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210025041.0，技术领域涉及：G03F1/26；该发明授权光掩模坯是由笹本纮平;稻月判臣设计研发完成，并于2016-08-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本光掩模坯在说明书摘要公布了：本发明涉及光掩模坯，其包含透明衬底和含铬膜。所述含铬膜由一个铬化合物层构成，铬化合物层由包含Cr、N和可选的O的铬化合物形成，并且具有如下组成：Cr含量≥30at％，Cr+N+O总含量≥93at％，且满足式：3Cr≤2O+3N。所述第一组成是：NCr原子比≥0.95，Cr含量≥40at％，Cr+N总含量≥80at％，O含量≤10at％。
本发明授权光掩模坯在权利要求书中公布了：1.光掩模坯，其被加工成适于使用波长250nm以下的曝光光进行图案转印的光掩模，该光掩模坯包含透明衬底和含铬膜，所述含铬膜通过作为光学膜的半色调相移膜而设置在所述衬底上，其中，所述含铬膜由一个铬化合物层构成，所述铬化合物层由包含铬、氮和碳或包含铬、氮、氧和碳的铬化合物形成，并且具有如下组成：铬含量为至少40at%，铬和氮的总含量为至少80at%，氮铬的原子比为至少0.95，氧含量为10at%以下，铬、氮和氧的总含量为至少93at%，碳含量为7at%以下，且满足式1，3Cr ≤ 2O + 3N1其中，Cr是铬含量，O是氧含量，N是氮含量，铬含量、氧含量和氮含量的单位分别是at%，所述曝光光为ArF准分子激光，所述含铬膜相对于所述曝光光的光密度为1.5~2.6，所述含铬膜和所述半色调相移膜相对于所述曝光光的光密度为2.5~3.5，所述含铬膜的厚度为35nm‑47nm，所述含铬膜的薄层电阻为10,000 Ω□以下。
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