恩德莱斯+豪瑟尔韦泽尔有限商业两合公司丹尼尔·科赫获国家专利权
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龙图腾网获悉恩德莱斯+豪瑟尔韦泽尔有限商业两合公司申请的专利非侵入式温度计获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114364959B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080063574.7，技术领域涉及：G01K15/00；该发明授权非侵入式温度计是由丹尼尔·科赫;马克·沙勒思;哈拉尔德·布林德尔;斯特凡·维德曼;皮特·维德曼;托尔斯滕·伊泽尔特;克里斯蒂安·普克;帕沃·弗尔多利亚克;格奥尔格·沃尔夫;克里斯蒂安·卡尔魏特;马库斯·莫宁韦格;阿尔弗雷德·乌姆克雷尔设计研发完成，并于2020-08-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本非侵入式温度计在说明书摘要公布了：本发明涉及一种用于确定和或监视过程变量，尤其是容纳体2中的介质M的温度T或流量的设备1，包括：温度传感器5，以记录温度T；以及柔性、绝热支撑元件7，其可布置在容纳体2的壁W的外表面上，并且其中，温度传感器5被固定至支撑元件7。
本发明授权非侵入式温度计在权利要求书中公布了：1.一种用于确定和或监视过程变量的设备1，所述过程变量是容纳体2中的介质M的温度T或流量，所述设备包括： 温度传感器5，所述温度传感器记录温度T； 柔性、绝热支撑元件7，所述支撑元件7能够布置在所述容纳体2的壁W的外表面上，其中，所述温度传感器5被固定在所述支撑元件7上面，以及单元11，所述单元包括具有各向异性导热率的材料，其中，所述单元11为固定至所述支撑元件7的石墨的薄壁的膜或石墨的薄壁的箔，其中，至少所述温度传感器5以使得所述石墨的薄壁的膜或所述石墨的薄壁的箔被布置在面对所述容纳体的所述支撑元件7的表面O的方式被布置在所述支撑元件7与所述单元11之间，使得所述单元11用于沿着面对所述容纳体2的所述支撑元件7的该表面O的有针对性的并且均匀的热分布。
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