广州华星光电半导体显示技术有限公司冯雷雷获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉广州华星光电半导体显示技术有限公司申请的专利阵列基板及其制备方法、显示面板获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114709173B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210328409.0，技术领域涉及：H10D86/01；该发明授权阵列基板及其制备方法、显示面板是由冯雷雷;李珊设计研发完成，并于2022-03-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本阵列基板及其制备方法、显示面板在说明书摘要公布了：本申请提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板，通过在衬底基板的有源区涂覆第一墨水以形成有源层图案，并在有源层图案上对应沟道区的位置涂覆第二墨水以形成保护层图案，然后对有源层图案和保护层图案进行固化成膜，使有源层图案形成有源层，保护层图案形成保护层，如此把保护层设置在所述有源层的沟道区，对有源层的沟道区进行保护，以缓解现有金属氧化物存在的被腐蚀污染的问题。
本发明授权阵列基板及其制备方法、显示面板在权利要求书中公布了：1.一种阵列基板制备方法，其特征在于，包括： 提供衬底基板，并在所述衬底基板上定义出有源区和沟道区，所述沟道区位于所述有源区内； 在所述有源区涂覆第一墨水以形成有源层图案； 在所述沟道区涂覆第二墨水以形成保护层图案； 对所述有源层图案和所述保护层图案进行固化成膜，使所述有源层图案形成有源层，所述保护层图案形成保护层； 所述在所述有源区涂覆第一墨水以形成有源层图案的步骤，包括： 制作金属盐溶液以形成所述第一墨水； 所述在所述沟道区涂覆第二墨水以形成保护层图案的步骤，包括： 把SiS2粉末溶于有机溶剂中形成所述第二墨水； 所述对所述有源层图案和所述保护层图案进行固化成膜，使所述有源层图案形成有源层，所述保护层图案形成保护层的步骤，包括： 将形成有所述有源层图案和所述保护层图案的所述衬底基板送入烘干炉内进行烘干，同步进行抽气，使所述金属盐溶液中的溶剂挥发形成金属氧化物半导体层作为所述有源层，同时所述第二墨水中SiS2与溶液中的水气反应形成SiO2，以在所述有源层的表面形成所述保护层。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人广州华星光电半导体显示技术有限公司，其通讯地址为：510700 广东省广州市黄埔区(中新广州知识城)亿创街1号406房之417；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励