东京毅力科创株式会社波多野达夫获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基片加热装置、基片加热方法和基片加热部的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114944348B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210120470.6，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权基片加热装置、基片加热方法和基片加热部的制造方法是由波多野达夫;渡边直树设计研发完成，并于2022-02-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本基片加热装置、基片加热方法和基片加热部的制造方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种温度控制性良好且不易产生由热冲击引起的损伤的基片加热装置、基片加热方法和基片加热部的制造方法。在进行基片处理的处理容器内对基片进行加热的基片加热装置包括：基片加热部，其具有载置基片的载置面，利用加热器对载置于载置面的基片进行加热；护套部，其被设置成隔着冷却空间覆盖基片加热部的底部；和对冷却空间供给冷却气体的冷却气体供给部。
本发明授权基片加热装置、基片加热方法和基片加热部的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种基片加热装置，其在进行基片处理的处理容器内对基片进行加热，所述基片加热装置的特征在于，包括： 基片加热部，其具有用于载置基片的载置面，利用加热器对载置于所述载置面的基片进行加热； 护套部，其为金属制的，且被设置成隔着冷却空间覆盖所述基片加热部的底部；和对所述冷却空间供给冷却气体的冷却气体供给部，在所述护套部的上表面的外周部形成有用于规定所述冷却空间的、呈向上方突出的圆环状的外周突出部，所述外周突出部与所述基片加热部的下表面外周部之间被密封圈气密地密封，所述基片加热部在主体部的下表面中央部以向下方突出的方式形成有带凸缘的突出部，在所述突出部的凸缘沿周向形成有多个螺纹件插通孔，在所述主体部与所述凸缘之间嵌入有圆环状的螺纹件固定部件，多个螺纹件插通于所述螺纹件插通孔，与所述螺纹件固定部件螺合，由此，所述护套部被固定于所述基片加热部的中央部。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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