ASML荷兰有限公司E·库尔干诺娃获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利用于形成材料的经图案化的层的方法和设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115244211B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180018817.X，技术领域涉及：C23C16/04；该发明授权用于形成材料的经图案化的层的方法和设备是由E·库尔干诺娃;G·C·德弗里斯;A·O·波利亚科夫;J·V·奥沃卡姆普;T·J·克嫩;T·朱兹海妮娜;S·卡斯特拉诺斯·奥尔特加;O·C·M·卢吉尔设计研发完成，并于2021-02-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于形成材料的经图案化的层的方法和设备在说明书摘要公布了：披露了用于形成材料的经图案化的层的方法和设备。在一个布置中，提供呈气态形式的沉积过程材料。通过引起气态沉积过程材料的冷凝或沉积，在衬底上形成所述沉积过程材料的层。照射沉积过程材料的所述层的选定部分以对所述选定部分中的所述沉积过程材料进行改性。
本发明授权用于形成材料的经图案化的层的方法和设备在权利要求书中公布了：1.一种在衬底上形成材料的经图案化的层的方法，包括： 提供呈气态形式的沉积过程材料； 通过引起气态沉积过程材料的冷凝或沉积，在所述衬底上形成所述沉积过程材料的层； 照射沉积过程材料的所述层的选定部分以对所述选定部分中的所述沉积过程材料进行改性，其中所述改性基于在所述沉积过程材料的粒子之间创建交联，以获得经改性的沉积过程材料的与所述选定部分外部的未经改性的沉积过程材料相比对移除更高的耐受性； 以及蒸发或升华沉积过程材料的所述层的位于所述选定部分之外的部分中的未经改性的沉积过程材料，以在由所述选定部分限定的图案中留下固体材料层，来替代贯穿整个所述方法移除抗蚀剂以形成所述经图案化的层的任何处理，其中，所述沉积过程材料包括用于沉积过程的前体材料，并且由在所述选定部分中的所述照射局部地驱动所述沉积过程，并且所述沉积过程的驱动包括驱动涉及所述前体材料的化学反应，并且进而导致在由所述选定部分限定的所述图案中形成沉积材料的层。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人ASML荷兰有限公司，其通讯地址为：荷兰维德霍温；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励