西安电子科技大学赵胜雷获国家专利权
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龙图腾网获悉西安电子科技大学申请的专利一种基于复合漏极的GaN双向阻断垂直功率器件获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115440821B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-13发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211040718.4,技术领域涉及:H10D30/63;该发明授权一种基于复合漏极的GaN双向阻断垂直功率器件是由赵胜雷;艾月;张进成;刘爽;宋秀峰;黄永;陈兴;郝跃设计研发完成,并于2022-08-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于复合漏极的GaN双向阻断垂直功率器件在说明书摘要公布了:本发明公开了一种基于复合漏极的GaN双向阻断垂直功率器件,包括肖特基漏极、多个欧姆漏极、衬底、漂移层、沟道层、导电层、栅极介质、源极和栅极,其中,肖特基漏极、衬底、漂移层、沟道层、导电层和栅极介质自下而上依次设置,多个欧姆漏极均匀镶嵌在肖特基漏极内部,且多个欧姆漏极和肖特基漏极的上表面均与衬底的下表面接触;肖特基漏极与衬底采用肖特基接触,多个欧姆漏极与衬底均采用欧姆接触;源极设置在栅极介质的两侧,源极的下表面向下延伸至沟道层;栅极设置在栅极介质的中部,栅极向下延伸至漂移层且通过栅极介质与漂移层、沟道层和导电层间隔开。本发明可以有效减小开启电压,保持肖特基接触的整流特性,且仍具有双向阻断能力。
本发明授权一种基于复合漏极的GaN双向阻断垂直功率器件在权利要求书中公布了:1.一种基于复合漏极的GaN双向阻断垂直功率器件,其特征在于,包括肖特基漏极1、多个欧姆漏极2、衬底3、漂移层4、沟道层5、导电层6、栅极介质7、源极8和栅极9,其中,所述肖特基漏极1、所述衬底3、所述漂移层4、所述沟道层5、所述导电层6和所述栅极介质7自下而上依次设置,所述多个欧姆漏极2均匀镶嵌在所述肖特基漏极1内部,且所述多个欧姆漏极2和所述肖特基漏极1的上表面均与所述衬底3的下表面接触; 所述肖特基漏极1与所述衬底3采用肖特基接触,所述多个欧姆漏极2与所述衬底3均采用欧姆接触; 所述源极8设置在所述栅极介质7的两侧,所述源极8的下表面向下延伸至所述沟道层5;所述栅极9设置在所述栅极介质7的中部,所述栅极9向下延伸至所述漂移层4且通过所述栅极介质7与所述漂移层4、所述沟道层5和所述导电层6间隔开; 所述欧姆漏极2呈长条形结构,多个所述欧姆漏极2平行设置在所述肖特基漏极1内部且从所述肖特基漏极1的一侧延伸至相对的另一侧; 所述GaN双向阻断垂直功率器件还包括电流阻挡层10,所述电流阻挡层10设置在所述漂移层4上表面左右两侧,且所述电流阻挡层10的上表面与所述沟道层5的下表面接触。
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