ASML荷兰有限公司吕稳获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利确定用于光刻相关图案的圆化轮廓获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115509084B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210632761.3，技术领域涉及：G03F1/70；该发明授权确定用于光刻相关图案的圆化轮廓是由吕稳;M·F·沙伊甘萨拉克;谢晓波;王祯祥设计研发完成，并于2022-06-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本确定用于光刻相关图案的圆化轮廓在说明书摘要公布了：本文中描述了用于确定目标轮廓的圆化轮廓、或用于掩模设计的其它的光刻有关轮廓的方法和系统。所述方法包括将轮廓表示转换成i在第一维度例如，x中的第一组轮廓点位置和ii在第二维度例如，y中的第二组轮廓点位置。基于所述第一组轮廓点位置和所述第二组轮廓点位置来确定信号函数，所述信号函数指示所述轮廓表示的不同区段。基于第一滤波函数和所述信号函数来更新所述第一组轮廓点位置，并且基于所述第二滤波函数和所述信号函数来更新所述第二组轮廓点位置。基于更新后的轮廓点位置，产生所述轮廓表示的圆化轮廓。
本发明授权确定用于光刻相关图案的圆化轮廓在权利要求书中公布了：1.一种被配置成用于产生光刻掩模图案的圆化轮廓的非暂时性计算机可读介质，所述非暂时性计算机可读介质包括存储在其中的指令，所述指令在由一个或更多个处理器执行时引起包括以下各项的操作： 将掩模图案的轮廓表示转换成i在第一维度中的第一组轮廓点位置和ii在不同于所述第一维度的第二维度中的第二组轮廓点位置； 基于所述第一组轮廓点位置和所述第二组轮廓点位置来确定信号函数，所述信号函数指示所述轮廓表示的不同区段； i基于第一滤波函数和所述信号函数来更新所述第一组轮廓点位置，以及ii基于第二滤波函数和所述信号函数来更新所述第二组轮廓点位置；以及基于更新后的第一组轮廓点位置和更新后的第二组轮廓点位置来产生所述掩模图案的所述轮廓表示的圆化轮廓。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人ASML荷兰有限公司，其通讯地址为：荷兰维德霍温；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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