株式会社斯库林集团山本滋获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社斯库林集团申请的专利基板处理方法以及基板处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115692173B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210898032.2，技术领域涉及：H10P70/00；该发明授权基板处理方法以及基板处理装置是由山本滋;枝光建治;藤井大树;岩田敬次;伊藤健一;川井侑哉设计研发完成，并于2022-07-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理方法以及基板处理装置在说明书摘要公布了：本发明涉及一种基板处理方法以及基板处理装置。基板处理方法包括第一气体处理工序、疏水处理工序以及散布工序。在第一气体处理工序中，在腔室3的内部经减压的状态D下，将第一气体G1供给至腔室3内的基板W。第一气体G1包含有机溶剂的气体。疏水处理工序是在第一气体处理工序之后执行。在疏水处理工序中，腔室3的内部处于经减压的状态D，将疏水剂H供给至腔室3内的基板W。散布工序是在疏水处理工序之后执行。在散布工序中，腔室3的内部处于经减压的状态D，将第一液L1散布至腔室3内的基板W。第一液L1包含有机溶剂的液体。
本发明授权基板处理方法以及基板处理装置在权利要求书中公布了：1.一种基板处理方法，一次处理收容在一个腔室内的多个基板，所述基板处理方法包括： 第一浸渍工序，将所述基板浸渍到贮存于处理槽内的第二液中，所述处理槽被设置在所述腔室内； 第一气体处理工序，在所述第一浸渍工序之后，在所述腔室的内部经减压的状态下，将包含有机溶剂的气体的第一气体供给至所述腔室内的所述基板； 疏水处理工序，在所述第一气体处理工序之后，在所述腔室的内部经减压的状态下，对所述腔室内的所述基板供给疏水剂；以及散布工序，在所述疏水处理工序之后，在所述腔室的内部经减压的状态下，向所述腔室内的所述基板散布包含有机溶剂的液体的第一液，在所述第一气体处理工序、所述疏水处理工序与所述散布工序中，所述基板位于所述处理槽的上方。
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