东京毅力科创株式会社植松治志获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利等离子体处理方法和等离子体处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116072498B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211285523.6，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权等离子体处理方法和等离子体处理装置是由植松治志;富田尚宏;齐藤均设计研发完成，并于2022-10-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本等离子体处理方法和等离子体处理装置在说明书摘要公布了：本发明提供等离子体处理方法和等离子体处理装置。等离子体处理方法使用等离子体处理装置利用等离子体对基片进行处理，包括基于处理方案进行控制的控制工序，处理方案由多个处理步骤构成，对每个处理步骤设定了用于对基片进行处理的多个处理参数各自的参数值，在控制工序中，在将处理方案与预先确定的点火参照数据进行对照的结果是判断为难以通过基于该处理方案的控制使等离子体稳定地点火的情况下，执行包括等离子体的点火的处理步骤时，在经过等离子体达到稳定的稳定时间为止的期间，将多个处理参数中的一部分处理参数替换为与所设定的参数值不同的点火用参数值来进行控制，在经过稳定时间后，使用一部分处理参数的原来设定的参数值进行控制。
本发明授权等离子体处理方法和等离子体处理装置在权利要求书中公布了：1.一种等离子体处理方法，其为使用等离子体处理装置利用等离子体对基片进行处理的等离子体处理方法，其特征在于： 包括基于处理方案进行控制的控制工序，其中，所述处理方案由多个处理步骤构成，在所述处理方案中，对每个所述处理步骤设定了用于对基片进行处理的多个处理参数各自的参数值，在所述控制工序中，在将所述处理方案与预先确定的点火参照数据进行对照的结果是判断为难以通过基于该处理方案的控制使所述等离子体稳定地点火的情况下，执行包括所述等离子体的点火的所述处理步骤时，在经过所述等离子体达到稳定的预先确定的稳定时间为止的期间，将所述多个处理参数中的一部分处理参数替换为与所设定的参数值不同的预先确定的点火用参数值来进行控制，在经过所述稳定时间之后，使用所述一部分处理参数的原来设定的所述参数值来进行控制。
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