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龙图腾网获悉嘉庚创新实验室申请的专利一种半导体薄膜质量分析方法、系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116130375B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211683325.5，技术领域涉及：H10P74/00；该发明授权一种半导体薄膜质量分析方法、系统是由陈智凌;张榆柏;尹君;李静;吴炳辉;苏援教;郑南峰设计研发完成，并于2022-12-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种半导体薄膜质量分析方法、系统在说明书摘要公布了：本发明涉及一种半导体薄膜质量分析方法、系统，方法包含以下步骤：S10：获取待测半导体薄膜的图像，选取所述待测半导体薄膜的图像的有效区域；S20：选择所述有效区域中的若干分析点，获取所述分析点的颜色模型，提取所述分析点的颜色模型的像素属性值；S30：计算所述分析点的像素属性值的标准偏差，若所述分析点的像素属性值的标准偏差满足第一预设值区间，则判定所述待测半导体薄膜的均匀性合格；和或统计所述有效区域中所有大于第二预设值的分析点数量占比，若分析点数量占比小于第三预设值，则判定所述待测半导体薄膜的穿孔量合格。

本发明授权一种半导体薄膜质量分析方法、系统在权利要求书中公布了：1.一种半导体薄膜质量分析方法，其特征在于，包含以下步骤： S10：获取待测半导体薄膜的图像，选取所述待测半导体薄膜的图像的有效区域；其中，获取待测半导体薄膜的图像包括：选取并固定拍摄装置的焦距和曝光度，将所述待测半导体薄膜放置于面光源上方，通过所述面光源均匀发射的光向上穿过所述待测半导体薄膜，在所述待测半导体薄膜的上方通过所述拍摄装置获取所述待测半导体薄膜的图像； S20：选择所述有效区域中的若干分析点，获取所述分析点的颜色模型，提取所述分析点的颜色模型的像素属性值；其中，所述颜色模型包括Lab颜色模型或XYZ颜色模型；所述分析点的像素属性值为亮度值； S30：计算所述分析点的像素属性值的标准偏差，若所述分析点的像素属性值的标准偏差满足第一预设值区间，则判定所述待测半导体薄膜的均匀性合格；和或统计所述有效区域中所有大于第二预设值的分析点数量占比，若所述分析点数量占比小于第三预设值，则判定所述待测半导体薄膜的穿孔量合格；其中，所述第一预设值区间为0.314‑5.155，第二预设值为所述面光源亮度的80%，第三预设值为0.431%‑1.174%； 所述步骤S30还包括：计算所述分析点的像素属性值平均值，若所述分析点的像素属性值平均值满足第四预设值区间，则判定所述待测半导体薄膜的厚度合格； 所述步骤S30还包括：S31：获取若干质量合格的不同膜厚的半导体薄膜的图像并提取若干测试点作为标准样品点，获取所述标准样品点的颜色模型和膜厚，提取所述标准样品点的像素属性值，计算所述标准样品点的像素属性值的平均值，建立膜厚‑像素属性值标准曲线；S32：获取所述待测半导体薄膜的图像的有效区域的膜厚；所述第四预设值区间的中间值是从所述膜厚‑像素属性值标准曲线中，根据所述待测半导体薄膜的图像的有效区域的膜厚提取相应的像素属性值。

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