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龙图腾网获悉杭州福斯特电子材料有限公司申请的专利光固化树脂组合物及其应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116184763B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310178941.3，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权光固化树脂组合物及其应用是由袁丽;朱高华;吴佳丰;李伟杰设计研发完成，并于2023-02-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本光固化树脂组合物及其应用在说明书摘要公布了：本发明提供了一种光固化树脂组合物及其应用。按重量份计，该光固化树脂组合物包括：45～65份碱溶性树脂、35～50份聚合单体及2.7～5.0份光引发剂；碱溶性树脂选自通式I～IV所示的化合物中的一种或多种。采用本申请提供的上述碱溶性树脂与聚合单体以及光引发剂极易于得到高固含、低粘度的抗蚀剂。相比于其它抗蚀剂，对于具有上述特定组成的抗蚀剂的生产，仅需要添加极少量的有机溶剂即可得到适宜涂布的涂布胶液，从而能够显著降低其生产过程的VOC排放量，同时能够显著降低有机溶剂的成本。采用上述配方制得的抗蚀剂能够满足IC封装载板等高阶半导体封装领域，以及高频高速的高精密PCB制作领域的需求。

本发明授权光固化树脂组合物及其应用在权利要求书中公布了：1.一种光固化树脂组合物，其特征在于，按重量份计，所述光固化树脂组合物包括：45～65份碱溶性树脂、35～50份聚合单体及2.7～5.0份光引发剂； 所述碱溶性树脂选自通式I～IV所示的化合物中的一种或多种： I，II，III，IV，R’选自C5～C14的取代或未取代的单环碳环烷基、C5～C14的取代或未取代的双环碳环烷基、C5～C14的取代或未取代的多环碳环烷基、C5～C14的取代或未取代的单环杂环烷基、C5～C14的取代或未取代的双环杂环烷基、C5～C14的取代或未取代的多环杂环烷基，且所述双环碳环烷基和所述多环碳环烷基分别具有并环结构或桥环结构； R选自C1～C6的烷基、C1～C3的烷氧基、C1～C3的烷氨基、羟基或羧基； M表示C1～C3的亚烷基或杂原子； R1、R2、R3、R4和R5分别独立地选自氢原子或甲基； Q选自未取代的芳基或杂芳基、羟基取代的芳基或杂芳基、酰胺基取代的芳基或杂芳基、氟原子取代的芳基或杂芳基、氰基取代的芳基或杂芳基、氨基取代的芳基或杂芳基、羰基取代的芳基或杂芳基、C1～C5的烷基取代的芳基或杂芳基、或C1～C3的烷氧基取代的芳基或杂芳基； m表示1～10的任意整数； 以占所述通式I或II所示化合物的分子量的百分含量计，x1对应链段的含量为10～65wt%，y1对应链段的含量为10～35wt%，z1对应链段的含量为1～10wt%，w1对应链段的含量为0～55wt%； 以占所述通式III或IV所示化合物的分子量的百分含量计，x2对应链段的含量为55～76wt%，y2对应链段的含量为15～35wt%，w2对应链段的含量为2～10wt%。

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