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龙图腾网获悉中国机械总院集团海西(福建)分院有限公司申请的专利研磨抛光机床的控制方法及控制系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117226714B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311152985.5，技术领域涉及：B24B49/10；该发明授权研磨抛光机床的控制方法及控制系统是由林鸿榕;刘文志;高源;陈洪;张世煌;郑秀芳;余俊成设计研发完成，并于2023-09-07向国家知识产权局提交的专利申请。

本研磨抛光机床的控制方法及控制系统在说明书摘要公布了：本申请公开了一种研磨抛光机床的控制方法及控制系统。研磨抛光机床的控制方法包括：初始化步骤、判断步骤以及加工步骤。初始化步骤用于指定加工标准，避免加工完成后的工件参数差距过大。判断步骤用于判断待加工的工作是否加工完成。加工步骤用于调整加工件的厚度。本申请公开的研磨抛光机床的控制方法及控制系统解决了现有技术中采用丝杠步进进给控制主轴垂向升降运动的方式，无法在加工过程中实时监控主轴的下压力，且不能调节研磨抛光盘下压力在设定的范围内，从而难以保证有机玻璃板的平面研磨抛光加工的质量和精度的问题。

本发明授权研磨抛光机床的控制方法及控制系统在权利要求书中公布了：1.一种研磨抛光机床的控制方法，其特征在于，包括： 判断步骤：判断待加工的工件的厚度T是否大于成品工件厚度T0，若待加工的所述工件厚度T不大于所述成品工件厚度T0，则加工完毕，否则执行加工步骤； 加工步骤：检测所述研磨抛光机床的主轴电机10的当前工作电流I和当前工作电压U，根据所述当前工作电流I和所述当前工作电压U计算研磨抛光盘16的当前下压力N；判断所述当前下压力N是否在下压力允许波动范围X之内：若所述当前下压力N在所述下压力允许波动范围X内，则执行所述判断步骤；若所述当前下压力N超出所述下压力允许波动范围X，则判断所述当前下压力N与下压力标准值N0之差是否大于零：若所述当前下压力N与所述下压力标准值N0之差大于零，则控制所述研磨抛光盘16向远离所述研磨抛光机床的工作台30的方向移动单循环进给量δ，并重新执行所述加工步骤；若所述当前下压力N与所述下压力标准值N0之差小于或等于零，则控制所述研磨抛光盘16向靠近所述工作台30的方向移动所述单循环进给量δ，并再次执行所述判断步骤； 计算所述研磨抛光盘16的所述当前下压力N的步骤包括： 根据所述当前工作电流I和所述当前工作电压U计算出主轴电机10的输出功率P； 根据所述主轴电机10的所述输出功率P和所述主轴电机10的转速n计算出所述研磨抛光机床的主轴12的负载力矩M； 根据所述主轴12的所述负载力矩M与所述研磨抛光盘的半径r计算出所述主轴12的负载力F； 根据所述研磨抛光盘16与待加工的所述工件之间的摩擦因数μ和所述主轴12的所述负载力F计算所述研磨抛光盘16的所述当前下压力N。

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