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龙图腾网获悉浙江众凌科技有限公司申请的专利一种用于湿法蚀刻补偿蚀刻装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117265537B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311108613.2，技术领域涉及：C23F1/08；该发明授权一种用于湿法蚀刻补偿蚀刻装置是由陈浩;刘松;杨文;沈洵;徐华伟;王锦涛设计研发完成，并于2023-08-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种用于湿法蚀刻补偿蚀刻装置在说明书摘要公布了：本发明属于湿法蚀刻技术领域，特别涉及一种用于湿法蚀刻补偿蚀刻装置，包括：溢流盒；集液槽，位于溢流盒下方；进液管道，位于溢流盒与集液槽之间用于向溢流盒输送药液；其中，进液管道的出液端贯穿溢流盒外一侧壁伸入溢流盒内部，溢流盒上端开设有用于供药液溢流出与待蚀刻面接触的敞口区，集液槽用于收集溢流盒溢流出的药液。本发明的有益效果为：能够有效的提高蚀刻面的减薄均一性，药液消耗量小，并且能够通过集液槽对药液进行收集再利用，使用效果好。

本发明授权一种用于湿法蚀刻补偿蚀刻装置在权利要求书中公布了：1.一种用于湿法蚀刻补偿蚀刻装置，其特征在于，包括： 溢流盒1； 集液槽2，位于溢流盒1下方； 进液管道3，位于溢流盒1与集液槽2之间用于向溢流盒1输送药液； 其中，进液管道3的出液端贯穿溢流盒1外一侧壁伸入溢流盒1内部，溢流盒1上端开设有用于供药液溢流出与待蚀刻面接触的敞口区，集液槽2用于收集溢流盒1溢流出的药液； 进液管道3包括主管及连接于主管上的若干根分流出液管； 溢流盒1内一侧固定安装有若干用于调节药液液位的进液调节装置，进液调节装置包括： 固定柱4，固定柱4固定安装于溢流盒1内，固定柱4内开设有容纳腔； 分隔板 A5；分隔板 B51，分隔板 A5与分隔板 B51固定安装于容纳腔内将容纳腔由上至下依次分隔为腔室 A6、腔室 B7和腔室 C8，分隔板 A5位于分隔板 B51上方；进液口9，开设于腔室 B7左侧上边缘；出液口101，开设于腔室 B7右侧下边缘； 第一调节机构，位于腔室 A6内； 第二调节机构，位于腔室 B7内； 第三调节机构，位于腔室 C8内； 其中，进液调节装置与分流出液管一一对应，进液管道3位于溢流盒1内的一端通过螺纹连接于进液口9内； 第二调节机构包括： 第一调节筒体10，上下两端均呈敞开设置；若干第一通槽，开设于第一调节筒体10外侧且呈环形阵列分布； 第二调节筒体11，转动连接于第一调节筒体10内，第二调节筒体11外侧壁与第一调节筒体10的内侧壁相抵，第二调节筒体11下端呈敞开设置； 若干第二通槽，开设于第二调节筒体11外侧且呈环形阵列分布； 第一塞块12，套设于第一调节筒体10下端外边缘； 其中，第一塞块12外周壁与腔室 B7内侧壁相抵，分隔板 A5下端开设有环槽，第一调节筒体10上端滑动密封连接于环槽内； 第一调节机构包括： 传动轴13，位于腔室 A6内，传动轴13下端贯穿分隔板 A5伸入腔室 B7内与第二调节筒体11固定连接； 第一环块14，位于腔室 A6内且与传动轴13固定连接，传动轴13与第一环块14同轴，第一环块14内还嵌设有环形磁块； 第二环块15，固定安装于腔室 A6内上端，第二环块15内嵌设有与环形磁块相配合的电磁线圈； 微型电机16，固定安装于分隔板 A5上端一侧，微型电机16的输出轴上固定安装有主动齿轮； 其中，传动轴13上端固定安装有与主动齿轮相配合的从动齿轮，主动齿轮的厚度大于从动齿轮的厚度，初始状态下，第一调节筒体10与环槽底部间距设置，第一环块14与分隔板 A5相抵，第一塞块12封堵于出液口的进液端上； 第三调节机构包括： 第二塞块17，滑动连接于腔室 C8内； 伸缩杆18，固定安装于腔室 C8内底部，伸缩杆18的活动端固定连接于第二塞块17； 弹簧，套设于伸缩杆18外侧，弹簧的一端与腔室 C8内底部相抵，另一端与第二塞块17相抵； 其中，固定柱4外侧设有第一连接管19，第一连接管19的一端贯穿固定柱4伸入腔室 C8内且位于第二塞块17上方，第一连接管19的另一端贯穿固定柱4和分隔板 A5伸入环槽底部，环槽与第二塞块17上方填充有润滑油。

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