京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司陈义鹏获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司申请的专利显示基板及其制备方法、显示装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN117356186B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-13发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202280001108.5,技术领域涉及:H10K59/12;该发明授权显示基板及其制备方法、显示装置是由陈义鹏;石领设计研发完成,并于2022-04-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本显示基板及其制备方法、显示装置在说明书摘要公布了:一种显示基板,所述显示基板包括衬底以及在所述衬底上层叠设置的第一有源层、第一功能层、第二有源层、第二功能层和层间介质层。所述显示基板还包括第一过孔、第二过孔、第三过孔。所述第一过孔贯穿至少部分所述第二功能层和至少部分所述第一功能层、并暴露所述第一有源层的部分表面。所述第二过孔,贯穿所述层间介质层,并与所述第一过孔连通。所述第三过孔贯穿所述层间介质层和至少部分所述第二功能层,并暴露所述第二有源层的部分表面。其中,相比于所述层间介质层,所述第一过孔在先形成,所述第三过孔在后形成;所述第一过孔的孔径小于所述第二过孔的孔径,且所述第一过孔的孔径小于所述第三过孔的孔径。
本发明授权显示基板及其制备方法、显示装置在权利要求书中公布了:1.一种显示基板的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括: 提供衬底; 在所述衬底上依次形成第一有源层、第一功能层、第二有源层和第二功能层; 形成贯穿至少部分所述第二功能层和至少部分所述第一功能层的第一过孔,所述第一过孔暴露所述第一有源层的部分表面; 在所述第二功能层上形成层间介质层,所述层间介质层的一部分填充所述第一过孔; 去除所述层间介质层中填充所述第一过孔的部分,并在所述层间介质层中形成与所述第一过孔连通的第二过孔; 形成贯穿所述层间介质层和至少部分所述第二功能层的第三过孔,所述第三过孔暴露所述第二有源层的部分表面。
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