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龙图腾网获悉中国科学院兰州化学物理研究所申请的专利一种DLC自润滑薄膜及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117587407B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311568696.3，技术领域涉及：C23C28/04；该发明授权一种DLC自润滑薄膜及其制备方法是由吕文泉;周峰;吕哲馨;张远航;蔡美荣;胡海龙设计研发完成，并于2023-11-23向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种DLC自润滑薄膜及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种DLC自润滑薄膜及其制备方法，涉及表面改性处理技术领域。本发明针对类金刚石薄膜存在的固有缺陷和应用瓶颈，利用复合磁过滤阴极电弧沉积FCVA和等离子体增强化学气相沉积PECVD镀膜技术，将材料组成复合多元化和结构梯度化相结合，采用添加过渡层薄膜的方法来提高材料的热稳定性，改善材料的内应力，提高膜基结合力。本发明提供的DLC自润滑薄膜与基体的结合力强，耐磨性和热稳定性好，使用寿命长，可靠性高。

本发明授权一种DLC自润滑薄膜及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种DLC自润滑薄膜，其特征在于，包括附着在钢基体上的依次层叠的离子注入Cr层、DLC过渡层和含氢DLC层； 所述离子注入Cr层中Cr离子以C2Cr3形式存在； 所述DLC过渡层由高SP3价键结构的DLC膜与若干层高SP2价键结构的DLC膜依次层叠形成；所述高SP2价键结构的DLC膜与离子注入Cr层接触，所述高SP3价键结构的DLC膜与含氢DLC层接触； 所述高SP3价键结构的DLC膜中SP3价键的含量高于SP2价键的含量，所述高SP2价键结构的DLC膜中SP2价键的含量高于SP3价键的含量；沿离子注入Cr层向含氢DLC层方向，所述DLC过渡层中SP2价键的含量逐渐降低，SP3价键的含量逐渐升高； 所述高SP3价键结构的DLC膜的厚度为50~250nm； 所述高SP2价键结构的DLC膜的总厚度为0.1~0.25μm，单层高SP2价键结构的DLC膜的厚度为10~50nm； 所述DLC过渡层的总厚度为0.2~0.5μm； 所述高SP3价键结构的DLC膜中SP3价键的含量为60~80%；每层所述高SP2价键结构的DLC膜中SP2价键的含量为60~80%。

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