长鑫存储技术有限公司贾若然获国家专利权
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龙图腾网获悉长鑫存储技术有限公司申请的专利图像处理方法、装置、计算机设备及计算机可读存储介质获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119339098B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-13发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202310835398.X,技术领域涉及:G06V10/44;该发明授权图像处理方法、装置、计算机设备及计算机可读存储介质是由贾若然;孙侠;陈继华;刘忠明;杨益;王海睿设计研发完成,并于2023-07-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本图像处理方法、装置、计算机设备及计算机可读存储介质在说明书摘要公布了:本公开提供一种图像处理方法、装置、计算机设备及计算机可读存储介质,属于半导体技术领域。该方法包括:获得显影后图形和蚀刻后图形;对所述显影后图形和所述蚀刻后图形进行处理,分别获得显影后图形轮廓和蚀刻后图形轮廓;获得所述显影后图形轮廓上每个候选数据点与所述蚀刻后图形轮廓上对应数据点之间的目标蚀刻偏差;获得所述显影后图形轮廓上每个候选数据点的M个候选特征,M为大于1的整数;根据所述显影后图形轮廓上每个候选数据点的候选特征及其目标蚀刻偏差,获得每个候选特征的蚀刻偏差相关度指标;根据每个候选特征的蚀刻偏差相关度指标,从M个候选特征中确定M1个目标特征,M1为大于或等于1且小于或等于M的整数。
本发明授权图像处理方法、装置、计算机设备及计算机可读存储介质在权利要求书中公布了:1.一种图像处理方法 ,其特征在于 ,包括: 获得显影后图形和蚀刻后图形; 对所述显影后图形和所述蚀刻后图形进行处理,分别获得显影后图形轮廓和蚀刻后图形轮廓; 获得所述显影后图形轮廓上每个候选数据点与所述蚀刻后图形轮廓上对应数据点之间的目标蚀刻偏差; 获得所述显影后图形轮廓上每个候选数据点的M个候选特征,M为大于或等于1的整数; 根据所述显影后图形轮廓上每个候选数据点的候选特征及其目标蚀刻偏差,获得每个候选特征的蚀刻偏差相关度指标; 所述每个候选特征的蚀刻偏差相关度指标,包括:将每个候选数据点的M个候选特征通过蚀刻偏差模型进行处理,获得每个候选数据点的绝对蚀刻偏差预测值;分别给每个候选数据点的各个候选特征添加噪声,将每个候选数据点添加噪声后的M个候选特征通过所述蚀刻偏差模型进行处理,获得每个候选数据点的各个候选特征的加噪蚀刻偏差预测值;根据每个候选数据点的绝对蚀刻偏差预测值、每个候选数据点的各个候选特征的加噪蚀刻偏差预测值以及每个候选数据点的目标蚀刻偏差,获得每个候选特征的蚀刻偏差相关度指标; 根据每个候选特征的蚀刻偏差相关度指标,从M个候选特征中确定M1个目标特征,M1为大于或等于1且小于或等于M的整数。
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