西安奕斯伟材料科技股份有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司周淼获国家专利权
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龙图腾网获悉西安奕斯伟材料科技股份有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司申请的专利硅片清洁装置、硅片清洁设备及硅片清洁方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119819603B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-13发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411720586.9,技术领域涉及:B08B1/12;该发明授权硅片清洁装置、硅片清洁设备及硅片清洁方法是由周淼;孙介楠设计研发完成,并于2024-11-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本硅片清洁装置、硅片清洁设备及硅片清洁方法在说明书摘要公布了:本公开提供了硅片清洁装置、硅片清洁设备及硅片清洁方法,所述硅片清洁装置包括:基座;连接至所述基座的第一清洁组件和第二清洁组件,其中,所述第一清洁组件用于通过抛磨的方式对硅片的表面进行清洁,所述第二清洁组件用于通过清扫的方式对所述硅片的所述表面进行清洁;其中,所述第一清洁组件和所述第二清洁组件中的至少一者设置成能够相对于另一者移动,以选择性地使所述第一清洁组件与所述第二清洁组件中的仅一者能够与所述硅片的表面接触。
本发明授权硅片清洁装置、硅片清洁设备及硅片清洁方法在权利要求书中公布了:1.一种硅片清洁装置,其特征在于,所述硅片清洁装置包括: 基座; 连接至所述基座的第一清洁组件和第二清洁组件,其中,所述第一清洁组件用于通过抛磨的方式对硅片的表面进行清洁,所述第二清洁组件用于通过清扫的方式对所述硅片的所述表面进行清洁; 其中,所述第一清洁组件和所述第二清洁组件中的至少一者设置成能够相对于另一者移动,以选择性地使所述第一清洁组件与所述第二清洁组件中的仅一者能够与所述硅片的表面接触,所述硅片清洁装置包括连接至所述第一清洁组件和所述第二清洁组件中的至少一者的驱动部,所述第一清洁组件包括清洁部和连杆,所述连杆的一端与所述清洁部连接并且所述连杆的另一端与所述驱动部连接,使得所述驱动部能够经由所述连杆驱动所述清洁部沿远离及朝向所述基座的方向移动,所述清洁部呈十字形,并且所述十字形与所述基座同心地布置。
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