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龙图腾网获悉清源创新实验室;智覆纳米科技(泉州)有限公司申请的专利一种实现粉体连续原子级包覆的装置及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120519829B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510956778.8，技术领域涉及：C23C16/455；该发明授权一种实现粉体连续原子级包覆的装置及方法是由张福蓊;谢微;邬斌;闫龙飞;郑辉东设计研发完成，并于2025-07-11向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种实现粉体连续原子级包覆的装置及方法在说明书摘要公布了：本发明涉及原子层沉积技术领域，尤其涉及一种实现粉体连续原子级包覆的装置及方法，所述实现粉体连续原子级包覆的装置包括机架及依流水线设于机架上的反应腔室、横向穿设过反应腔室的反应管段、设于机架上用于驱动反应管段绕轴转动的转动驱动装置，所述反应管段为能够透气且阻挡粉体跑出的多孔结构，所述反应管段的一端设有进料口，另一端设有出料口，所述反应腔室包括第一腔室、第二腔室、第三腔室及第四腔室，所述第一腔室、第二腔室、第三腔室及第四腔室内设有用于对反应管段吹气的供气模块，所述第一腔室、第二腔室、第三腔室及第四腔室内设有用于进行排气的排气模块。其解决了粉体材料难以实现高效、连续、可控的原子级包覆的技术问题。

本发明授权一种实现粉体连续原子级包覆的装置及方法在权利要求书中公布了：1.一种实现粉体连续原子级包覆的装置，其特征在于：包括机架1及依流水线设于机架1上的反应腔室2、横向穿设过反应腔室2的反应管段3、设于机架1上用于驱动反应管段3绕轴转动的转动驱动装置4，所述反应管段3为能够透气且阻挡粉体跑出的多孔结构，所述反应管段3的一端设置有进料口31，另一端设置有出料口32，所述反应腔室2包括第一腔室21、第二腔室22、第三腔室23及第四腔室24，所述第一腔室21、第二腔室22、第三腔室23及第四腔室24内分别设置有用于对反应管段3吹气的供气模块5，所述第一腔室21、第二腔室22、第三腔室23及第四腔室24内设置有用于进行排气的排气模块6； 所述反应腔室2上可拆卸地设置有用于对其进行加热的加热装置7，所述加热装置7能够实现对第一腔室21、第二腔室22、第三腔室23及第四腔室24的温度的分别调控； 所述第一腔室21的供气模块5供应第一前驱体，所述第三腔室23的供气模块5供应第二前驱体，所述第二腔室22和第四腔室24的供气模块5供应惰性气体，所述供气模块5上具备有多个喷嘴52； 所述反应管段3由第一腔室21至第四腔室24倾斜设置，且由上至下倾斜，以实现顺利出料，所述机架1上设置有用于调整反应管段3倾斜角度的高度调节装置8。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人清源创新实验室;智覆纳米科技(泉州)有限公司，其通讯地址为：362000 福建省泉州市泉港区前黄镇学院路1号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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