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湖南善德储能新材料研究院有限公司陈红辉获国家专利权

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龙图腾网获悉湖南善德储能新材料研究院有限公司申请的专利一种无电子逸出干扰的复合金属涂层及其制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN121110030B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-13发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202511667885.5,技术领域涉及:C23C28/00;该发明授权一种无电子逸出干扰的复合金属涂层及其制备方法是由陈红辉;陈锦睿设计研发完成,并于2025-11-14向国家知识产权局提交的专利申请。

一种无电子逸出干扰的复合金属涂层及其制备方法在说明书摘要公布了:本发明公开了一种无电子逸出干扰的复合金属涂层及其制备方法,属于金属涂层技术领域。所述复合金属涂层从内向外依次包括:基材、第一金属导电层、第二金属‑非金属复合导电层、异质结结构层和第三导电层。其制备方法包括:对基材进行前处理;依次电沉积第一金属导电层和第二金属‑非金属复合导电层;对第二金属‑非金属复合导电层进行磷化或氮化处理以及热处理,形成能有效屏蔽电子迁移的异质结结构层;最后电沉积第三导电层。本发明的异质结结构层利用无机非金属与金属离子的杂化性质,形成了高抗氧化性和稳定性的结构,有效屏蔽了内层铜、镍的电子活性迁移;解决了因电子迁移形成金属间化合物对可焊性及耐腐蚀性的不利影响。

本发明授权一种无电子逸出干扰的复合金属涂层及其制备方法在权利要求书中公布了:1.一种无电子逸出干扰的复合金属涂层,其特征在于,从内到外依次包括: 基材,所述基材的材料为铜合金,其作为涂层的承载基础; 第一金属导电层,所述第一金属导电层的材料为铜或镍,用于为后续涂层提供导电基础并增强涂层与基材之间的结合力; 第二金属‑非金属复合导电层,所述第二金属‑非金属复合导电层中,金属组分包括镍,非金属元素包括磷或硼; 异质结结构层,所述异质结结构层是通过对第二金属‑非金属复合导电层进行磷化处理和热处理或对第二金属‑非金属复合导电层进行氮化处理和热处理,进而形成于第二金属‑非金属复合导电层上,用于屏蔽金属电子活性迁移; 第三导电层,所述第三导电层的材料为锡,用于提供导电性能。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人湖南善德储能新材料研究院有限公司,其通讯地址为:415000 湖南省常德市常德经济技术开发区樟木桥街道龙潭庵社区三一路19号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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