西安交通大学连芩获国家专利权
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龙图腾网获悉西安交通大学申请的专利一种底曝光光固化3D打印的浆料槽及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115958791B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211611283.4，技术领域涉及：B29C64/255；该发明授权一种底曝光光固化3D打印的浆料槽及其制备方法和应用是由连芩;关志强;李涤尘;王帅伟;郑誉;齐晨云设计研发完成，并于2022-12-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种底曝光光固化3D打印的浆料槽及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种底曝光光固化3D打印的浆料槽及其制备方法和应用，属于3D打印技术领域。本发明公开的底曝光光固化3D打印的浆料槽的制备方法，在含硅或含氟薄膜的两个表面分别涂覆功能剂，干燥后，得到改性薄膜，随后将改性薄膜设置在浆料槽本体的底部的透光底板上，得到一种底曝光光固化3D打印的浆料槽。使得低分子量的功能剂当做脱模剂作为与固化层的接触面，减小打印过程中固化层与薄膜的粘附作用；使得低分子量的功能剂当做抗静电剂改性薄膜与浆料槽的接触面，改善薄膜与浆料槽的透光板之间的吸附效应，降低打印过程中固化层所受分离力，提高底曝光光固化3D打印的工艺可靠性。
本发明授权一种底曝光光固化3D打印的浆料槽及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种底曝光光固化3D打印的浆料槽的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： S1：在含硅或含氟薄膜的两个表面分别涂覆功能剂，干燥后，得到改性薄膜5； S2：将改性薄膜5设置在浆料槽本体1的底部的透光底板上，得到一种底曝光光固化3D打印的浆料槽； S1中，所述功能剂为聚丙二醇或聚乙二醇；所述含硅或含氟薄膜为聚四氟乙烯薄膜、聚全四氟乙丙烯薄膜或聚二甲基硅氧烷薄膜。
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