株式会社SK电子山田慎吾获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社SK电子申请的专利光掩模坯的制造方法以及光掩模的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116107153B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211255619.8，技术领域涉及：G03F1/50；该发明授权光掩模坯的制造方法以及光掩模的制造方法是由山田慎吾;森山久美子设计研发完成，并于2022-10-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本光掩模坯的制造方法以及光掩模的制造方法在说明书摘要公布了：本发明的课题在于提供一种在光掩模的制造时容易进行图案的尺寸控制，能够在光掩模中提高图案的尺寸精度的光掩模坯的制造方法以及光掩模的制造方法。该光掩模坯的制造方法用于制造将透明基板3的表面划分为第一图案区域和第二图案区域，在第一图案区域形成有第一功能性膜，在第二图案区域形成有第二功能性膜的光掩模坯2。
本发明授权光掩模坯的制造方法以及光掩模的制造方法在权利要求书中公布了：1.光掩模坯的制造方法，是将透明基板的表面划分为第一图案区域和第二图案区域，在第一图案区域形成有第一功能性膜，在第二图案区域形成有第二功能性膜的光掩模坯的制造方法，其特征在于，包括： 光掩模坯准备工序，准备在透明基板之上形成有第一功能性膜的第一次光掩模坯； 第一构图工序，以与第一图案区域对应的图案对第一功能性膜进行构图，去除第二图案区域中的第一功能性膜； 功能性膜形成工序，在去除了第一功能性膜的透明基板的露出部分以及第一功能性膜之上形成第二功能性膜； 第二构图工序，以与第二图案区域对应的图案对第二功能性膜进行构图，去除第一图案区域中的第二功能性膜。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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