业成科技(成都)有限公司;业成光电(深圳)有限公司;业成光电(无锡)有限公司;英特盛科技股份有限公司黄皓坚获国家专利权
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龙图腾网获悉业成科技(成都)有限公司;业成光电(深圳)有限公司;业成光电(无锡)有限公司;英特盛科技股份有限公司申请的专利薄膜制备方法、薄膜光栅光波导及增强现实装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116360035B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310189829.X，技术领域涉及：G02B6/13；该发明授权薄膜制备方法、薄膜光栅光波导及增强现实装置是由黄皓坚设计研发完成，并于2023-03-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本薄膜制备方法、薄膜光栅光波导及增强现实装置在说明书摘要公布了：本申请涉及薄膜制备方法、薄膜光栅光波导及增强现实装置，所述薄膜制备方法包括步骤：提供基板，所述基板设有入射光栅区域、出射光栅区域及折叠光栅区域；采用导电粒子对入射光栅区域、出射光栅区域及折叠光栅区域进行涂布，通过电场控制涂布位置的线宽分布，以通过线宽分布而在涂布位置产生差异化的折射率，形成薄膜光栅；整体曝光，得到薄膜光波导。上述薄膜制备方法，通过对各自独立区域进行涂布光栅确认，每个独立区域可以分开确认光效率，并且利用带电涂布，将导电粒子分布堆叠后形成光栅，一方面有利于避免浪费传统旋转涂布方式所造成大量材料的流失问题，另一方面有利于精确控制特定区域的位置，保证了曝光效果。
本发明授权薄膜制备方法、薄膜光栅光波导及增强现实装置在权利要求书中公布了：1.一种薄膜制备方法，其特征在于，包括步骤： S100，提供基板，所述基板设有入射光栅区域、出射光栅区域及折叠光栅区域；其中，步骤S100包括：S110，在所述基板的同一表面或者相异表面开设相互间隔的凹槽作为所述入射光栅区域、所述出射光栅区域及所述折叠光栅区域；所述凹槽深度为15μm至500μm，所述凹槽侧面溅镀反射层，所述反射层厚度为10nm至300nm； S200，采用导电粒子对所述入射光栅区域、所述出射光栅区域及所述折叠光栅区域进行点胶或狭缝式涂布，通过电场控制涂布位置的线宽分布，以通过线宽分布而在所述涂布位置产生差异化的折射率，形成薄膜光栅；其中，所述薄膜光栅的光栅宽度范围为0.2μm至3μm，周期范围为0.3μm至5μm，所述薄膜光栅的光栅明暗折射率差异范围为0.05至0.08； S300，整体曝光，得到薄膜光波导。
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