芯科实验室有限公司阿提拉·佐洛米获国家专利权
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龙图腾网获悉芯科实验室有限公司申请的专利具有隔离天线的超材料天线阵列获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115528437B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210729494.1，技术领域涉及：H01Q21/00；该发明授权具有隔离天线的超材料天线阵列是由阿提拉·佐洛米;亚当·苏勒;安德里亚·纳吉;杰弗里·廷德尔;帕西·拉希卡拉;特里·莉·迪基设计研发完成，并于2022-06-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本具有隔离天线的超材料天线阵列在说明书摘要公布了：公开了一种利用接地保护环和超材料结构的天线阵列。在某些实施例中，天线阵列包括多个天线单元，其中每个天线单元是相同的。天线单元包括上表面，上表面包括贴片天线和接地保护环。电抗阻抗表面RIS层设置在上表面下方并包括超材料结构。超材料结构被配置为向贴片天线提供电感，从而允许贴片天线比其他可能的更小。在一些实施例中，超材料结构包括空心方形框架。使用这种天线单元构造的天线阵列比传统天线阵列具有更少的耦合，从而获得更好的性能。此外，这种新的天线阵列还需要比传统天线阵列更小的空间。
本发明授权具有隔离天线的超材料天线阵列在权利要求书中公布了：1.一种天线阵列，包括多个天线单元，其中，所述多个天线单元中的每一个包括： 上表面，所述上表面包括贴片天线和接地保护环，所述接地保护环围绕所述贴片天线，其中所述贴片天线是方形的； 电抗阻抗表面RIS层，所述RIS层设置在所述上表面下方，其中所述RIS层包括超材料结构； 接地层，所述接地层设置在所述RIS层下方，其中通孔将所述接地保护环电连接到所述接地层，所述超材料结构与所述接地层电隔离；以及 RIS接地保护环，所述RIS接地保护环设置在所述RIS层上、与所述接地保护环垂直对齐并电连接到所述通孔和所述接地层。
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