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龙图腾网获悉北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)申请的专利晶圆曝光布局的计算方法、装置、电子设备及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114578659B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210219494.7，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权晶圆曝光布局的计算方法、装置、电子设备及存储介质是由张叶;曲越奇;张香兰;姚昕明;高建利设计研发完成，并于2022-03-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本晶圆曝光布局的计算方法、装置、电子设备及存储介质在说明书摘要公布了：本申请提供了一种晶圆曝光布局的计算方法、装置、电子设备及存储介质，所述计算方法包括：根据预先设置的步进偏移量移动曝光栅格区域，并计算待曝光晶圆中的曝光晶粒在目标曝光区域中的数量；根据曝光栅格区域移动的次数，确定曝光栅格区域移动的总偏移量是否超过预设阈值，若超过，则将数量最大的曝光晶粒所对应的曝光栅格区域作为待曝光晶圆的目标曝光布局，以按照目标曝光布局对待曝光晶圆进行曝光。采用本申请提供的技术方案能够通过设置步进偏移量多次移动曝光栅格区域，将数量最大的曝光晶粒所对应的曝光栅格区域作为待曝光晶圆的目标曝光布局，简化了操作步骤，提高晶圆产品良率的同时提高了晶圆曝光过程的工作效率。

本发明授权晶圆曝光布局的计算方法、装置、电子设备及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种晶圆曝光布局的计算方法，其特征在于，所述计算方法包括： 将待曝光晶圆放置在预先建立的曝光栅格区域中，根据预先设置的步进偏移量移动曝光栅格区域；其中，曝光栅格区域中包括目标曝光区域以及清除区域； 根据移动后的曝光栅格区域，计算待曝光晶圆中的曝光晶粒在所述目标曝光区域中的数量； 所述根据移动后的曝光栅格区域，计算待曝光晶圆中的曝光晶粒在所述目标曝光区域中的数量的步骤，包括： 根据移动后的曝光栅格区域，确定待曝光晶圆中全部曝光晶粒的中心位置； 根据每个曝光晶粒的中心位置，确定所述曝光晶粒四个角的位置； 根据所述曝光晶粒四个角的位置，确定该曝光晶粒是否在目标曝光区域内； 所述根据所述曝光晶粒四个角的位置，确定该曝光晶粒是否在目标曝光区域内的步骤，包括： 根据曝光晶粒四个角的位置，确定该曝光晶粒与所述待曝光晶圆的中心位置的位置距离； 获取待曝光晶圆的半径以及所述清除区域的边缘清除量，将所述待曝光晶圆的半径与所述边缘清除量的差值确定为目标检测值； 检测所述位置距离是否小于所述目标检测值； 若小于，则确定该曝光晶粒在目标曝光区域内； 若不小于，则确定该曝光晶粒不在目标曝光区域内； 若在，则将所述目标曝光区域中的曝光晶粒数量加一，执行下一个曝光晶粒是否在目标曝光区域内的确定步骤，直至遍历完待曝光晶圆中全部的曝光晶粒，计算所述目标曝光区域中曝光晶粒的数量； 若不在，执行下一个曝光晶粒是否在目标曝光区域内的确定步骤，直至遍历完待曝光晶圆中全部的曝光晶粒，计算所述目标曝光区域中曝光晶粒的数量； 根据曝光栅格区域移动的次数，确定曝光栅格区域移动的总偏移量是否超过预设阈值，若超过，则将所述数量最大的曝光晶粒所对应的曝光栅格区域作为待曝光晶圆的目标曝光布局，以按照目标曝光布局对所述待曝光晶圆进行曝光。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)，其通讯地址为：100176 北京市大兴区北京经济技术开发区泰河三街1号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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