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龙图腾网获悉天津泰合利华材料科技有限公司申请的专利一种UiO-66-NH2基混合基质膜的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115945082B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211694095.2，技术领域涉及：B01D71/82；该发明授权一种UiO-66-NH2基混合基质膜的制备方法是由栗晓东设计研发完成，并于2022-12-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种UiO-66-NH2基混合基质膜的制备方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种UiO‑66‑NH2基混合基质膜的制备方法，包括以下步骤：通过4‑氯‑N‑甲基邻苯二甲酰亚胺、催化剂A、还原剂、添加剂加到非质子溶剂中，制备得到3,3',4,4'‑联苯四羧酸二酐；再将UiO‑66‑NH2加到反应体系中，得到酸酐封端的UiO‑66‑NH2BPDA；将UiO‑66‑NH2BPDA、BPDA和ODA加到DMAC中，加入脱水剂和催化剂B，得到含有UiO‑66‑NH2的BPDA‑ODA型聚酰亚胺；将含有UiO‑66‑NH2的BPDA‑ODA型聚酰亚胺和DMAC配置成铸膜液，得到混合基质膜UiO‑66‑NH2BPDA‑ODA‑N。本发明的制备方法与传统的直接掺杂法制备混合基质膜相比，此方法极大提升了UiO‑66‑NH2的掺杂量，这使得保留CO2的选择性的同时，CO2的渗透通量进一步得到提升，具有更为优异的CO2分离性能。

本发明授权一种UiO-66-NH2基混合基质膜的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种UiO-66-NH2基混合基质膜的制备方法，其特征在于：包括以下步骤： 13,3',4,4'-联苯四羧酸二酐的制备： 在保护气下将4-氯-N-甲基邻苯二甲酰亚胺、催化剂A、还原剂、添加剂加到非质子溶剂中，40-60℃下反应10-18h，回收溶剂、重结晶、干燥得到双氨基苯亚酰胺；将得到的双氨基苯亚酰胺通过成盐溶剂水解成盐，除去不溶物、调酸、干燥得到联苯四酸；将联苯四酸加入苯类溶剂中再加乙酸酐反应，得到3,3',4,4'-联苯四羧酸二酐，简称BPDA； 2将步骤1合成的BPDA溶于溶剂A中，再将UiO-66-NH2加到反应体系中，搅拌均匀后，加入乙酸酐，反应条件25-50℃，反应结束后将其过滤、洗涤、干燥得到酸酐封端的UiO-66-NH2BPDA； 3将步骤2合成的UiO-66-NH2BPDA、步骤1合成的BPDA和ODA加到DMAC中，0-25℃下反应6-12h，加入脱水剂和催化剂B，继续反应一段时间后，将其倒入不良溶剂中，有大量固体析出、过滤、干燥得到含有UiO-66-NH2的BPDA-ODA型聚酰亚胺； 4将步骤3中的含有UiO-66-NH2的BPDA-ODA型聚酰亚胺和DMAC配置成固含量为5wt%-10wt%的铸膜液，倒入超平培养皿中，40-70℃缓慢挥发溶剂得到预制膜，在经过高温处理得到混合基质膜UiO-66-NH2BPDA-ODA-N； 混合基质膜UiO-66-NH2BPDA-ODA-N，N代表UiO-66-NH2的掺杂量，N为30-70，即UiO-66-NH2的掺杂量为30wt%-70wt%。

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