重庆缙源纳米科技有限公司付德君获国家专利权
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龙图腾网获悉重庆缙源纳米科技有限公司申请的专利一种团簇离子喷嘴获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223967185U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-03发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520507601.5，技术领域涉及：H01J37/32；该实用新型一种团簇离子喷嘴是由付德君;吐沙姑·阿不都吾甫;左飞龙设计研发完成，并于2025-03-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种团簇离子喷嘴在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种团簇离子喷嘴，包括喷嘴外壳、气体输入通道、团簇离子生成腔和喷嘴头部，所述喷嘴外壳内部的顶端设置有气体输入通道，且所述气体输入通道下方的喷嘴外壳内设置有团簇离子生成腔，所述团簇离子生成腔内部的中央位置处设置有分流板，且所述分流板上均匀分布有分流孔，所述分流孔下方的团簇离子生成腔内均设置有分流管道，且所述分流管道上均设置有节流阀，所述喷嘴外壳的底端设置有喷嘴头部。本实用新型通过安装有喷嘴外壳、气体输入通道、团簇离子生成腔、分流板、分流管道、节流阀以及喷嘴头部，通过调节团簇离子束的喷射方向、流量和能量分布，可以使得工件表面每个区域都受到均匀的离子束作用，提高抛光的均匀性。
本实用新型一种团簇离子喷嘴在权利要求书中公布了：1.一种团簇离子喷嘴，其特征在于，包括喷嘴外壳1、气体输入通道2、团簇离子生成腔4和喷嘴头部8，所述喷嘴外壳1内部的顶端设置有气体输入通道2，且所述气体输入通道2下方的喷嘴外壳1内设置有团簇离子生成腔4，所述团簇离子生成腔4内部的中央位置处设置有分流板5，且所述分流板5上均匀分布有分流孔15，所述分流孔15下方的团簇离子生成腔4内均设置有分流管道6，且所述分流管道6上均设置有节流阀7，所述喷嘴外壳1的底端设置有喷嘴头部8，且所述喷嘴头部8的顶部与分流管道6相连通。
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