京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司沙一鸣获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司申请的专利显示面板及其制作方法、显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114122029B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111447222.4，技术领域涉及：H10D86/60；该发明授权显示面板及其制作方法、显示装置是由沙一鸣;程旭辉;李锡平设计研发完成，并于2021-11-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本显示面板及其制作方法、显示装置在说明书摘要公布了：本发明提供了一种显示面板，包括：显示区、开孔区和位于所述显示区和所述开孔区之间的隔离区，其特征在于，所述隔离区设置有：衬底基板；位于所述衬底基板上的无机绝缘层，所述无机绝缘层具有至少一个凹陷部；位于所述无机绝缘层远离所述衬底基板一侧的发光层和阴极，其中，所述发光层和所述阴极从所述显示区延伸至所述隔离区时在所述无机绝缘层的所述至少一个凹陷部断开。本发明实施例提供的显示面板通过在隔离区的无机绝缘层设置凹陷部，既能够隔断发光层又能隔断阴极，不仅防止发光层和阴极在水氧的作用下被进一步腐蚀，也能隔断阴极信号，防止黑斑现象加剧。
本发明授权显示面板及其制作方法、显示装置在权利要求书中公布了：1.一种显示面板，包括：显示区、开孔区和位于所述显示区和所述开孔区之间的隔离区，其特征在于，所述隔离区设置有： 衬底基板； 位于所述衬底基板上的无机绝缘层，所述无机绝缘层具有至少一个凹陷部；其中，所述无机绝缘层包括缓冲层、栅极绝缘层和层间介质层，所述缓冲层、栅极绝缘层和层间介质层之间包括至少一层金属子图形，所述至少一个凹陷部由所述至少一层金属子图形完全刻蚀后形成； 位于所述无机绝缘层远离所述衬底基板一侧的发光层和阴极，其中，所述发光层和所述阴极从所述显示区延伸至所述隔离区时在所述无机绝缘层的所述至少一个凹陷部断开； 所述凹陷部包括两个侧面和一个底面，所述两个侧面与所述衬底基板成一定角度，所述底面与所述衬底基板平行，所述凹陷部的至少一个侧面上设置有至少一个凹槽，所述至少一个侧面上的至少一个凹槽在所述衬底基板上的投影部分重叠，所述至少一个侧面上的至少一个凹槽沿第一方向依次排列，所述第一方向与远离所述衬底基板的方向垂直。
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