中国科学院上海微系统与信息技术研究所邓诗凯获国家专利权
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龙图腾网获悉中国科学院上海微系统与信息技术研究所申请的专利一种气体检测芯片及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114778494B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210523050.2，技术领域涉及：G01N21/552；该发明授权一种气体检测芯片及其制备方法是由邓诗凯;涂敏设计研发完成，并于2022-05-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种气体检测芯片及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及气体检测元件领域，本发明公开了一种气体检测芯片及其制备方法，该气体检测芯片，其包括基底层、阵列层和覆盖层；阵列层设置在基底层上，阵列层由多个金属纳米颗粒按预设排布规则排布构成；覆盖层设置在阵列层上，覆盖层用于吸附待检测气体。如此，得到的气体检测芯片具有选择性高、检测灵敏度高、体积小、易集成化的优点。
本发明授权一种气体检测芯片及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种气体检测芯片的制备方法，其特征在于，所述方法包括： 确定阵列层2中多个金属纳米颗粒21的预设排布规则、大小和形状； 基于所述多个金属纳米颗粒21的预设排布规则、大小和形状，在基底层1上形成所述阵列层2； 在所述阵列层2上形成覆盖层3，得到初始检测阵列4； 将所述初始检测阵列4划片，得到多个气体检测芯片5； 所述阵列层2的所述多个金属纳米颗粒21具有相同的大小和形状； 所述确定阵列层2中多个金属纳米颗粒21的预设排布规则、大小和形状的方法为时域有限差分法； 所述覆盖层3完全覆盖所述阵列层2； 所述覆盖层3为金属有机框架； 所述基于所述多个金属纳米颗粒21的预设排布规则、大小和形状，在基底层1上形成所述阵列层2，包括： 基于所述多个金属纳米颗粒21的预设排布规则、大小和形状设计光刻胶阵列模具200； 通过所述光刻胶阵列模具200在石英片基底层1上压印形成所述光刻胶阵列110。
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