ASM IP私人控股有限公司M.马蒂内恩获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉ASM IP私人控股有限公司申请的专利含过渡金属材料的沉积获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114921767B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210119551.4，技术领域涉及：C23C16/30；该发明授权含过渡金属材料的沉积是由M.马蒂内恩;T.哈坦帕;M.瑞塔拉;M.莱斯凯拉设计研发完成，并于2022-02-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本含过渡金属材料的沉积在说明书摘要公布了：本公开涉及半导体器件的制造。具体而言，本公开涉及通过循环沉积过程在衬底上形成含过渡金属材料的方法。该方法包括在反应室中提供衬底，在反应室中提供包含过渡金属化合物的过渡金属前体，以及在反应室中提供第二前体，其中过渡金属化合物包含结合到加合物配体的过渡金属卤化物，并且第二前体包含硫族元素或氮族元素。本公开还涉及形成过渡金属层的方法以及半导体器件。此外，还公开了一种气相沉积组件。
本发明授权含过渡金属材料的沉积在权利要求书中公布了：1.一种通过循环沉积过程在衬底上形成含过渡金属材料的方法，该方法包括： 在反应室中提供衬底； 在反应室中提供包含过渡金属化合物的过渡金属前体；以及 在反应室中提供第二前体，其中过渡金属化合物包含结合到加合物配体的过渡金属卤化物，并且第二前体包含硫族元素或氮族元素， 其中，所述衬底包括包含第一材料的第一表面和包含第二材料的第二表面，所述第一材料不同于所述第二材料， 其中，所述第二材料包括Si-H， 其中，所述含过渡金属材料相对于第二表面选择性地沉积在第一表面上, 其中，所述加合物配体是二齿含氮加合物配体, 其中，所述二齿含氮加合物配体包含两个氮原子，每个氮原子键合到至少一个碳原子上， 其中，所述硫族元素选自由硫、硒和碲构成的组；且 所述第二前体包括选自由砷、锑和铋构成的组的氮族元素。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人ASM IP私人控股有限公司，其通讯地址为：荷兰阿尔梅勒；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励