上海微电子装备(集团)股份有限公司朱晓亮获国家专利权
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龙图腾网获悉上海微电子装备(集团)股份有限公司申请的专利边缘放置误差的检测方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115729048B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111013392.1，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权边缘放置误差的检测方法是由朱晓亮;张家锦设计研发完成，并于2021-08-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本边缘放置误差的检测方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种边缘放置误差的检测方法，包括：提供一掩模版，形成有包括剂量测试图形和边缘粗糙度测试图形的测试标记；根据测试标记执行曝光工艺，并检测获得影响边缘放置误差的参数，参数包括照明位置精度、剂量重复性影响值、套刻误差、边缘粗糙度影响值和局部CD均匀性误差；根据参数设计包括第一前层图形和第一当层图形的边缘放置误差测试图形；执行曝光和显影工艺，检测第一前层图形与第一当层图形之间的套准位置，以判断边缘放置误差是否在容许量内。本发明的技术方案能够拟合出套刻误差和CD均匀性误差等参数在边缘放置误差中的占比或者能够获得各个参数与边缘放置误差之间的关系式。
本发明授权边缘放置误差的检测方法在权利要求书中公布了：1.一种边缘放置误差的检测方法，其特征在于，包括： 提供一掩模版，所述掩模版上形成有测试标记，所述测试标记包括剂量测试图形和边缘粗糙度测试图形； 根据所述测试标记执行曝光工艺，并检测获得影响边缘放置误差的参数，所述参数包括照明位置精度、剂量重复性影响值、套刻误差、边缘粗糙度影响值和局部CD均匀性误差； 根据所述参数的数值设计边缘放置误差测试图形，所述边缘放置误差测试图形包括第一前层图形和第一当层图形； 根据所述边缘放置误差测试图形执行曝光和显影工艺； 检测所述第一前层图形与所述第一当层图形之间的套准位置； 在不同的曝光条件下，重复执行根据所述测试标记执行曝光工艺和检测所述参数的步骤、根据所述边缘放置误差测试图形执行曝光和显影工艺的步骤以及检测所述套准位置的步骤，统计所述边缘放置误差未超标时的所述参数，以绘制所述边缘放置误差的容许曲线函数图，进而根据所述容许曲线函数图判断所述边缘放置误差是否在容许量内。
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