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广东硕成科技股份有限公司孙宇曦获国家专利权

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龙图腾网获悉广东硕成科技股份有限公司申请的专利一种应用于槽孔板的低应力沉铜液及其制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116949436B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-06发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202310971460.8,技术领域涉及:C23C18/40;该发明授权一种应用于槽孔板的低应力沉铜液及其制备方法是由孙宇曦;董美敬;曾庆明设计研发完成,并于2023-08-02向国家知识产权局提交的专利申请。

一种应用于槽孔板的低应力沉铜液及其制备方法在说明书摘要公布了:本发明公开了一种应用于槽孔板的低应力沉铜液,制备原料包括铜离子源,镍离子源,加速剂,稳定剂,络合剂,还原剂,表面活性剂,pH调节剂;所述铜离子源和镍离子源的质量比为10‑15:1。本发明通过采用特殊结构的加速剂可以降低沉铜液与槽孔板树脂材料的应力,在热应力测试中不会出现孔壁分离的缺陷。本发明应用于槽孔板的低应力沉铜液,体系稳定、反应高效、沉铜应力值处于低应力应力<100Mpa要求内,背光性能达9级以上,同时可满足槽孔的热应力测试的需求。

本发明授权一种应用于槽孔板的低应力沉铜液及其制备方法在权利要求书中公布了:1.一种应用于槽孔板的低应力沉铜液,其特征在于,制备原料包括铜离子源,镍离子源,加速剂,稳定剂,络合剂,还原剂,表面活性剂,pH调节剂,蒸馏水;所述铜离子源和镍离子源的质量比为10-15:1; 所述稳定剂为2-2联吡啶,1,1-磺酰二吡啶的组合; 所述加速剂为2-巯基苯并噻唑和3-1,1-二氧代-3-氧代-1,2-苯并异噻唑-23H-基丙烷磺酸钠的组合; 所述加速剂在沉铜液中的浓度为1-30ppm,所述稳定剂在沉铜液中的浓度为1-30ppm。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人广东硕成科技股份有限公司,其通讯地址为:512000 广东省韶关市乳源县乳城镇侯公渡经济开发区氯碱特色产业基地;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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