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龙图腾网获悉北京维开科技有限公司申请的专利一种磁控溅射复合镀膜方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117026188B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311022904.X，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权一种磁控溅射复合镀膜方法是由杜鸿基;陈亮设计研发完成，并于2023-08-15向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种磁控溅射复合镀膜方法在说明书摘要公布了：本发明属于一种磁控溅射复合镀膜方法，所述磁控溅射复合镀膜方法采用的磁控溅射复合镀膜设备包括双靶枪系统和光学监控器，所述双靶枪系统包括第一靶枪和第二靶枪，所述第一靶枪用以镀高反射率HR膜，所述第二靶枪用以镀增透AR膜，使HR和AR膜交替生长调整两种材料的不同厚度组合，和不同层数以得到不同性能的复合光学膜膜；光学监控器，用于实时监测和查看镀膜的质量，所述光学监控器包括发射器、陪片和接收器，其中陪片设置位置在工件盘的中心，在复合镀膜时，启动光学控制器，发射器向陪片发射预设波长的光，接收器接收到陪片的反射率的数值，从而判断复合膜层的镀膜质量。

本发明授权一种磁控溅射复合镀膜方法在权利要求书中公布了：1.一种磁控溅射复合镀膜方法，其特征在于，所述磁控溅射复合镀膜方法采用磁控溅射复合镀膜设备，所述磁控溅射复合镀膜设备包括工艺腔室，双靶枪系统和光学监控器，工艺腔室上方设有工件盘，工艺腔室内设有离子源和双靶枪系统，所述双靶枪系统包括第一靶枪和第二靶枪，所述第一靶枪用以镀高反射率HR膜，所述第二靶枪用以镀增透AR膜，使HR和AR膜交替生长调整两种材料的不同厚度组合，和不同层数以得到不同性能的复合光学膜； 光学监控器，用于实时监测和查看镀膜的质量，所述光学监控器包括发射器、陪片和接收器，其中陪片设置位置在工件盘的中心，在复合镀膜时，启动光学控制器，发射器向陪片发射预设波长的光，接收器接收到陪片的反射率的数值，从而判断复合膜层的镀膜质量； 所述工艺腔室为船型结构，包括顶面、底面，垂直于顶面和底面的第一侧面，垂直于顶面的半侧面，连接半侧面和底面的斜面，斜面上设计有安装离子源的安装口径，离子源通过该口径安装于该斜面上；根据离子源中心射出射线至工件盘圆心为始点的半径的23处，设计离子源的安装位置； 斜面与底面之间的夹角为120°，离子源表面中心点到工件盘以圆心为始点23处两点的距离为225mm，离子源表面中心点到工件盘以圆心为始点的23半径处，两点间的直线和工件盘水平方向之间的夹角为30°；且离子源在斜面上的安装位置为：从底边斜面的起始点到斜面中心的距离160mm处。

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