苏州新维度微纳科技有限公司卢英卓获国家专利权
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龙图腾网获悉苏州新维度微纳科技有限公司申请的专利真空辅助的高精密涂胶方法及涂布系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117718202B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311762072.5，技术领域涉及：B05D1/00；该发明授权真空辅助的高精密涂胶方法及涂布系统是由卢英卓;刘超;李大元设计研发完成，并于2023-12-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本真空辅助的高精密涂胶方法及涂布系统在说明书摘要公布了：本发明公开了真空辅助的高精密涂胶方法及涂布系统，其中涂胶方法，包括准备高真空的涂胶环境，若干待涂布的衬底样品分布于涂胶环境中实施至少一次沉积；一次沉积至少包括如下一个循环：A、在涂胶环境中充分分散当前循环对应的待涂布胶Gi形成的雾状颗粒Pi，在一个时段内Ti雾状颗粒Pi沉积到衬底样品以形成具有沉积厚度Di的沉积结构，i为循环的序列，雾状颗粒Pi的分布满足：雾状颗粒尺寸为15‑20nm；B、抽真空以修复涂胶环境，消除涂胶环境残余的雾状颗粒Pi。本发明通过优化纳米压印作业中胶沉积涂布技术，实现了胶层厚度的可控性，有效克服了涂布技术在机械设备等的因素下导致的涂布不均、气泡等问题。
本发明授权真空辅助的高精密涂胶方法及涂布系统在权利要求书中公布了：1.一种真空辅助的高精密涂胶方法，包括 准备高真空的涂胶环境，若干待涂布的衬底样品分布于所述涂胶环境中实施至少一次沉积，所述涂胶环境的高真空为：真空度不高于100mTorr； 一次所述沉积至少包括如下一个循环： A、在所述涂胶环境中充分分散当前循环对应的待涂布胶Gi形成的雾状颗粒Pi，在一个时段内Ti所述雾状颗粒Pi沉积到所述衬底样品以形成具有沉积厚度Di的沉积结构，i为循环的序列，雾状颗粒Pi的分布满足：雾状颗粒尺寸为15-20nm，所述待涂布胶Gi满足粘度不大于20cps； B、抽真空以修复所述涂胶环境，消除所述涂胶环境残余的雾状颗粒Pi。
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