香港科技大学V·V·瓦什琴科获国家专利权
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龙图腾网获悉香港科技大学申请的专利双偶氮联苯染料、包含其的偏光片以及双偶氮联苯染料的制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN117820873B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-06发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211200246.4,技术领域涉及:C09B43/00;该发明授权双偶氮联苯染料、包含其的偏光片以及双偶氮联苯染料的制备方法是由V·V·瓦什琴科;O·瓦什琴科;郭海成;蒙翠玲;何跃龙设计研发完成,并于2022-09-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本双偶氮联苯染料、包含其的偏光片以及双偶氮联苯染料的制备方法在说明书摘要公布了:本发明提供了一种用于薄膜偏光片的双偶氮联苯染料,其是AD1的类似物,利用该染料制备的薄膜偏光片具有良好的光学质量,如低光散射、高二向色比、宽带吸收和或对热和光照射的稳定性。本发明还提供了通过交叉偶联反应由两种不同的单偶氮染料来制备所述双偶氮联苯染料的制备方法,该制备方法因不使用有毒的联苯胺作为原料而成为生态友好的制备方法,由该方法获得的产物双偶氮联苯染料可以以简单且方便的方式进行纯化,并且通过该方法制备的双偶氮联苯染料可以具有对称或不对称的结构。此外,本发明还提供了包括所述双偶氮联苯染料的薄膜偏光片以及包括薄膜偏光片的用于显示应用的装置。
本发明授权双偶氮联苯染料、包含其的偏光片以及双偶氮联苯染料的制备方法在权利要求书中公布了:1.一种双偶氮联苯染料,具有下式I所示的结构: 式I, 其中,R1、R2、R3和R4中的至少一个取代基不同于其他取代基,且各自独立地为CnH2n+1,其中n=1-18。
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