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龙图腾网获悉重庆芯联微电子有限公司申请的专利掩膜的检测方法及装置、计算机可读存储介质、计算机程序产品、终端获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119147548B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411080051.X，技术领域涉及：G01N21/956；该发明授权掩膜的检测方法及装置、计算机可读存储介质、计算机程序产品、终端是由敖振宇;陈咏翔;曾鼎程;范富杰;胡展源设计研发完成，并于2024-08-07向国家知识产权局提交的专利申请。

本掩膜的检测方法及装置、计算机可读存储介质、计算机程序产品、终端在说明书摘要公布了：一种掩膜的检测方法及装置、计算机可读存储介质、计算机程序产品、终端，所述方法包括：获取目标掩膜，所述目标掩膜是经过光学邻近校正后的掩膜；获取光罩图像，所述光罩图像是基于所述目标掩膜制作得到的掩膜版的图像；根据所述光罩图像和所述目标掩膜的图像差异，检测所述光罩图像和所述目标掩膜的一致性。通过本公开方案能够在二维上实现对掩膜的品质管控，以助于改善掩膜的制作质量。

本发明授权掩膜的检测方法及装置、计算机可读存储介质、计算机程序产品、终端在权利要求书中公布了：1.一种掩膜的检测方法，其特征在于，包括： 获取目标掩膜，所述目标掩膜是经过光学邻近校正后的掩膜； 获取光罩图像，所述光罩图像是基于所述目标掩膜制作得到的掩膜版的图像； 根据所述光罩图像和所述目标掩膜的图像差异，检测所述光罩图像和所述目标掩膜的一致性； 其中，所述根据所述光罩图像和所述目标掩膜的图像差异，检测所述光罩图像和所述目标掩膜的一致性包括： 重叠所述光罩图像和所述目标掩膜得到重叠图像，所述重叠图像根据所述目标掩膜的图案轮廓划分得到多个分段； 对于每一分段，计算所述分段中光罩图像的图案和目标掩膜的图案之间的图像差异度； 根据所述多个分段的图像差异度检测所述光罩图像和所述目标掩膜的一致性； 所述获取目标掩膜包括：获取所述目标掩膜的至少一个第一预设区域的区域图像；所述获取光罩图像包括：获取所述光罩图像的至少一个第二预设区域的区域图像，所述至少一个第一预设区域和所述至少一个第二预设区域一一对应；所述重叠所述光罩图像和所述目标掩膜得到重叠图像包括： 对于每一所述第一预设区域，重叠所述第一预设区域的所述区域图像和对应的所述第二预设区域的所述区域图像，得到对应的重叠区域图像； 汇总至少一个所述重叠区域图像，得到所述重叠图像。

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