合肥维信诺科技有限公司王盼盼获国家专利权
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龙图腾网获悉合肥维信诺科技有限公司申请的专利掩膜板及其制备方法、掩膜装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119913456B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510337189.1，技术领域涉及：C23C14/04；该发明授权掩膜板及其制备方法、掩膜装置是由王盼盼;臧公正;李慧设计研发完成，并于2025-03-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本掩膜板及其制备方法、掩膜装置在说明书摘要公布了：本申请提供一种掩膜板及其制备方法、掩膜装置，其掩膜板包括掩膜板本体和支撑结构，掩膜板本体上设置有掩膜开口；支撑结构设置于掩膜板本体朝向基板的一侧，支撑结构凸出于掩膜板本体朝向基板的表面，支撑结构在掩膜板本体上的正投影与掩膜开口在掩膜板本体上的正投影无交叠。本申请提供的掩膜板，通过在掩膜板本体朝向基板的一侧设置支撑结构，支撑结构凸出于掩膜板本体朝向基板的表面，支撑结构在掩膜板本体上的正投影与掩膜开口在掩膜板本体上的正投影无交叠，在蒸镀时，利用支撑结构与基板接触，静电通过支撑结构进行释放，从而避免静电击伤基板中的电路。
本发明授权掩膜板及其制备方法、掩膜装置在权利要求书中公布了：1.一种掩膜板，用于在基板上蒸镀膜层，其特征在于，所述掩膜板包括： 掩膜板本体，所述掩膜板本体上设置有掩膜开口； 支撑结构，设置于所述掩膜板本体朝向所述基板的一侧，所述支撑结构凸出于所述掩膜板本体朝向所述基板的表面，所述支撑结构在所述掩膜板本体上的正投影与所述掩膜开口在所述掩膜板本体上的正投影无交叠； 所述掩膜板本体上设置有多个所述掩膜开口，多个所述掩膜开口沿第一方向和第二方向排布，所述第一方向和所述第二方向垂直； 所述基板包括多个子基板，所述掩膜开口在所述掩膜板本体上的正投影位于对应的所述子基板在所述掩膜板本体上的正投影内，所述支撑结构在所述掩膜板本体上的正投影与所述子基板在所述掩膜板本体上的正投影无交叠； 所述掩膜板本体朝向所述基板的表面包括目标区域，所述支撑结构在所述掩膜板本体上的正投影位于所述目标区域在所述掩膜板本体上的正投影内，所述支撑结构在蒸镀时与所述基板抵接以在所述目标区域与所述基板之间形成间隙。
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