买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网获悉浙江鸿星电子科技有限公司申请的专利一种石英晶片的清洗方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120690676B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510915749.7，技术领域涉及：H10P70/00；该发明授权一种石英晶片的清洗方法是由李昭宪;白碧设计研发完成，并于2025-07-03向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种石英晶片的清洗方法在说明书摘要公布了：本发明涉及半导体制造与电子元件精密加工技术领域，本发明公开一种石英晶片的清洗方法，通过创新设计的复合清洗液体系与优化工艺实现高效精密清洗。碱性复合清洗液由四甲基氢氧化铵、葡萄糖酸钠、过氧化氢组成，利用弱碱性环境与络合‑氧化协同作用去除有机物和金属离子；酸性复合清洗液包含草酸、氢氟酸、十二烷基苯磺酸钠，通过络合、刻蚀与表面活性作用去除残留金属离子和纳米颗粒。结合兆声波清洗、超临界CO2清洗及氮气干燥步骤，本方法可将石英晶片表面颗粒污染物控制在5个cm2以下，金属离子残留量低于5×10‑10gcm2，显著提升晶片表面质量与电子器件性能，同时具备绿色环保、工艺稳定等优势。

本发明授权一种石英晶片的清洗方法在权利要求书中公布了：1.一种石英晶片的清洗方法，其特征在于，包括以下步骤： 使用由0.3-0.5molL四甲基氢氧化铵、0.05-0.1molL葡萄糖酸钠、0.1-0.2molL过氧化氢和去离子水组成的碱性复合清洗液，在50-60℃下对石英晶片超声清洗10-15min； 使用由0.2-0.3molL草酸、0.01-0.03molL氢氟酸、0.05-0.1molL十二烷基苯磺酸钠和去离子水组成的酸性复合清洗液，室温下对石英晶片超声清洗8-12min，清洗结束后，用去离子水冲洗并采用兆声波清洗； 将兆声波清洗后的石英晶片放入超临界CO2清洗设备中清洗并采用氮气吹干； 所述碱性复合清洗液清洗步骤中，超声频率为40kHz，超声功率为80W； 所述酸性复合清洗液清洗步骤中，超声频率为40kHz，超声功率为80W； 所述兆声波清洗步骤中，去离子水的电阻率不低于18.2MΩ·cm； 清洗后石英晶片表面颗粒污染物数量可控制在5个cm2以下，金属离子残留量低于5×10-10gcm2，有机物残留碳含量＜0.1μgcm2。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人浙江鸿星电子科技有限公司，其通讯地址为：313299 浙江省湖州市德清县康乾街道上唐街81号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。