厦门芯壹方科技有限公司连水养获国家专利权
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龙图腾网获悉厦门芯壹方科技有限公司申请的专利一种实现大尺寸均匀沉积的微波等离子体增强原子层沉积或微波等离子体增强化学气相沉积设备及工艺获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120888902B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511118047.2，技术领域涉及：C23C16/455；该发明授权一种实现大尺寸均匀沉积的微波等离子体增强原子层沉积或微波等离子体增强化学气相沉积设备及工艺是由连水养;张志轩;吴金龙;朱玉泉;张婧;王伟昌设计研发完成，并于2025-08-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种实现大尺寸均匀沉积的微波等离子体增强原子层沉积或微波等离子体增强化学气相沉积设备及工艺在说明书摘要公布了：本发明涉及一种实现大尺寸均匀沉积薄膜的微波等离子体增强原子层沉积或微波等离子体增强化学气相沉积设备及工艺，包括共振导波腔、反应腔室、气体分散环、石英隔离板和天线网环，共振导波腔的上腔体进行独特设计；气体分散环设置于共振导波腔外周面且用于往共振导波腔内部喷射均匀环状式气流；石英隔离板位于共振导波腔内且位于气体分散环上方，石英隔离板用于使进透过石英隔离板的微波激发气体分散环喷出的气体产生分布均匀的等离子体；天线网环位于共振导波腔和反应腔室之间且位于石英隔离板下方且具有网孔，本方案能够实现微波能量的高效耦合与传输，从而提高等离子体的密度均匀性，满足8英寸及以上尺寸大面积基片的高质量均匀薄膜沉积需求。
本发明授权一种实现大尺寸均匀沉积的微波等离子体增强原子层沉积或微波等离子体增强化学气相沉积设备及工艺在权利要求书中公布了：1.一种实现大尺寸均匀沉积的微波等离子体增强原子层沉积或微波等离子体增强化学气相沉积设备，其特征在于：包括共振导波腔、反应腔室、气体分散环、石英隔离板和天线网环，所述共振导波腔的上腔体呈上大小下的锥形或者呈由上至下阶梯式逐渐增大的内弧面形或者球面形； 所述气体分散环设置于共振导波腔外周面且用于往共振导波腔内部喷射均匀环状式气流； 所述石英隔离板位于共振导波腔内且位于气体分散环上方，所述石英隔离板用于使进透过石英隔离板的微波激发气体分散环喷出的气体产生分布均匀的等离子体； 所述天线网环位于共振导波腔和反应腔室之间且位于石英隔离板下方，所述天线网环上形成有网孔。
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