荣芯半导体(宁波)有限公司张玉廷获国家专利权
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龙图腾网获悉荣芯半导体(宁波)有限公司申请的专利钝化层结构及其制作方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121076019B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511621884.7，技术领域涉及：H10W74/10；该发明授权钝化层结构及其制作方法是由张玉廷;陈浩宇;杨濡峰设计研发完成，并于2025-11-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本钝化层结构及其制作方法在说明书摘要公布了：本申请提供一种钝化层结构及其制作方法，所述结构包括依次堆叠的氧化铪层、氧化铪与石墨烯量子点组成的复合材料层、石墨烯量子点层以及氟化非晶碳层。所述氧化铪层、所述复合材料层、所述石墨烯量子点层以及所述氟化非晶碳层共同组成钝化层结构，四层材料层协同作用，实现界面缺陷钝化、电荷调控以及环境防护等多重功能，具有高介电性能、低界面缺陷、强机械稳定性及高环境耐受性，提升了半导体器件的电学性能。
本发明授权钝化层结构及其制作方法在权利要求书中公布了：1.一种钝化层结构，其特征在于，包括依次堆叠的氧化铪层、氧化铪与石墨烯量子点组成的复合材料层、石墨烯量子点层以及氟化非晶碳层；其中，所述复合材料层中石墨烯量子点的含量为10wt%~50wt%。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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