浙江众凌科技有限公司吴焰获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江众凌科技有限公司申请的专利一种掩膜版获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121109945B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511613665.4，技术领域涉及：C23C14/04；该发明授权一种掩膜版是由吴焰;王凤姣;王志欣;夏孝定;黄婷设计研发完成，并于2025-11-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种掩膜版在说明书摘要公布了：本发明涉及显示技术领域，提供了一种掩膜版，包括：像素区、净空区及标识区，像素区包括多个像素通孔，净空区包围标识区，净空区的外部被多个像素通孔包围；掩膜版包括沿厚度方向相对的第一面及第二面，净空区的第一面一侧设置多个第一凹槽，净空区的第二面一侧设置多个第二凹槽，第一凹槽及第二凹槽的排布与像素通孔的排布相同，且第一凹槽与第二凹槽的中心点在掩膜版厚度方向不重合；与像素区的相邻的第一凹槽和第二凹槽的深度为掩膜版厚度的二分之一，与标识区的相邻的第一凹槽和第二凹槽的深度大于掩膜版厚度的二分之一且小于等于掩膜版厚度的三分之二。本申请的掩膜版解决了现有技术中存在的FMM的像素区褶皱及标识通孔易形变的技术问题。
本发明授权一种掩膜版在权利要求书中公布了：1.一种掩膜版，其特征在于，包括：像素区、净空区及标识区，所述像素区包括多个像素通孔，所述净空区包围所述标识区，所述净空区的外部被多个所述像素通孔包围，所述标识区包括标识通孔； 掩膜版包括沿厚度方向相对的第一面及第二面，所述净空区的第一面一侧设置多个第一凹槽，所述净空区的第二面一侧设置多个第二凹槽，所述多个第一凹槽的排布与所述像素通孔的排布相同，所述多个第二凹槽的排布与所述像素通孔的排布相同，且所述第一凹槽的中心点与所述第二凹槽的中心点在掩膜版厚度方向不重合； 与所述像素区的相邻的所述第一凹槽和所述第二凹槽的深度为掩膜版厚度的二分之一，与所述标识区的相邻的所述第一凹槽和所述第二凹槽的深度大于掩膜版厚度的二分之一且小于等于掩膜版厚度的三分之二。
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