浙江众凌科技有限公司王凤姣获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江众凌科技有限公司申请的专利一种掩膜版获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121109946B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511613666.9，技术领域涉及：C23C14/04；该发明授权一种掩膜版是由王凤姣;徐华伟;龚月良;闫西安;张志锴;叶大成设计研发完成，并于2025-11-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种掩膜版在说明书摘要公布了：本发明涉及显示技术领域，提供了一种掩膜版，包括：像素区、净空区及标识区，净空区包围标识区，净空区的外部被多个像素通孔包围；包括沿厚度方向相对的玻璃面和蒸镀面，净空区的蒸镀面设置多个凹槽，净空区的平均单位体积剩余占比的取值区间随着像素区的平均单位体积剩余占比呈正相关；当标识区的中心距离最近的像素通孔的距离小于等于10倍的像素间距时，最深的凹槽与标识区的中心之间的距离大于等于标识区的中心距离最近的像素通孔的距离的二分之一且小于等于标识区的中心距离最近的像素通孔的距离的五分之三；最深的凹槽的深度大于掩膜版厚度的二分之一。本申请的掩膜版解决了现有技术存在的像素开口区域褶皱及像素通孔易损伤的技术问题。
本发明授权一种掩膜版在权利要求书中公布了：1.一种掩膜版，其特征在于，包括：像素区、净空区及标识区，所述像素区包括多个像素通孔，所述净空区包围所述标识区，所述净空区的外部被多个所述像素通孔包围，所述标识区包括标识通孔； 掩膜版包括沿厚度方向相对的玻璃面和蒸镀面，所述净空区的蒸镀面设置多个凹槽，所述净空区的平均单位体积剩余占比的取值区间随着所述像素区的平均单位体积剩余占比呈正相关； 当所述标识区的中心距离最近的所述像素通孔的距离小于等于10倍的像素间距时，最深的凹槽与所述标识区的中心之间的距离大于等于所述标识区的中心距离最近的所述像素通孔的距离的二分之一且小于等于所述标识区的中心距离最近的所述像素通孔的距离的五分之三；所述最深的凹槽的深度大于掩膜版厚度的二分之一。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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