深圳市先进连接科技有限公司李俊杰获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市先进连接科技有限公司申请的专利功率半导体芯片顶部金属层的制备方法与应用获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN121148994B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-06发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202511687776.X,技术领域涉及:H10P14/40;该发明授权功率半导体芯片顶部金属层的制备方法与应用是由李俊杰;吴昊;岑玮;靳继亨设计研发完成,并于2025-11-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本功率半导体芯片顶部金属层的制备方法与应用在说明书摘要公布了:本发明公开了一种功率半导体芯片顶部金属层的制备方法与应用,涉及功率半导体连接技术领域,其中方法包括:将金属烧结材料涂覆在功率半导体芯片或晶圆的顶部,接着进行烧结处理;当烧结处理为有压烧结处理时,将涂覆金属烧结材料的功率半导体芯片或晶圆以第一温度进行烘烤处理,烘烤处理完成后在经烘烤处理后的金属烧结材料表面垫覆隔离材料,再以第二温度进行有压烧结处理;当烧结处理为无压烧结处理时,将涂覆金属烧结材料的功率半导体芯片或晶圆以第三温度进行无压烧结处理;第一温度小于第二温度和第三温度;金属烧结材料涂覆的厚度为1~1000μm;晶圆为未切割的功率半导体芯片前体。本发明提供的技术方案工艺简单成本低廉。
本发明授权功率半导体芯片顶部金属层的制备方法与应用在权利要求书中公布了:1.一种功率半导体芯片顶部金属层的制备方法,其特征在于,包括: 将金属烧结材料涂覆在功率半导体芯片或晶圆的顶部,接着进行烧结处理; 当所述烧结处理为有压烧结处理时,将涂覆金属烧结材料的功率半导体芯片或晶圆以第一温度进行烘烤处理,烘烤处理完成后在经烘烤处理后的金属烧结材料表面垫覆隔离材料,再以第二温度进行有压烧结处理; 当所述烧结处理为无压烧结处理时,将涂覆金属烧结材料的功率半导体芯片或晶圆以第三温度进行无压烧结处理; 其中,所述第一温度小于所述第二温度和所述第三温度,所述第一温度为50~200℃,所述第二温度为100~400℃,所述第三温度为100~400℃; 所述金属烧结材料涂覆的厚度为1~1000μm; 所述晶圆为未切割的功率半导体芯片前体。
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