北京亦盛精密半导体有限公司张进京获国家专利权
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龙图腾网获悉北京亦盛精密半导体有限公司申请的专利一种清洗治具获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223970482U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-06发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520450219.5，技术领域涉及：B08B3/02；该实用新型一种清洗治具是由张进京;张慧;王烁设计研发完成，并于2025-03-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种清洗治具在说明书摘要公布了：本实用新型属于清洗设备技术领域，具体涉及一种清洗治具，包括下底板、上盖板和待清洗的半导体CVD，半导体CVD通过第一密封环和第二密封环与上盖板和下底板紧密贴合，形成密封结构；下底板设置有集料腔、阶梯槽以及第一振子和第二振子，其中第一振子用于增强清洗液的冲刷效果，第二振子用于将集料腔内的杂质快速集中到排出口处；上盖板顶部设有注液腔和对称布置的把手，注液腔用于均匀分布清洗液，把手便于操作装置的拆装；装置通过第一法兰圈和第二法兰圈的螺栓连接，确保密封效果和稳定性；在使用时，清洗液通过注液腔均匀覆盖半导体CVD，并通过喷淋孔将杂质带入集料腔，同时振子的作用提升了清洗效率和杂质排放速度，实现了高效清洗和快速排放。
本实用新型一种清洗治具在权利要求书中公布了：1.一种清洗治具，其特征在于：包括下底板1，下底板1的顶部设置有上盖板2，下底板1和上盖板2之间设置有待清洗的半导体CVD6，半导体CVD6上贯穿开设有喷淋孔61； 下底板1的底部连接有第一管道接头12，上盖板2的顶部连接有第二管道接头22； 清洗时，清洗液通过第二管道接头22进入到下底板1和上盖板2之间的空间内，并对位于下底板1和上盖板2之间的半导体CVD6进行清洗，清洗掉的残渣通过第一管道接头12排出； 下底板1的顶部开设有集料腔15和阶梯槽14，阶梯槽14位于集料腔15的顶部； 上盖板2的底部开设有注液腔23； 半导体CVD6放置在注液腔23和阶梯槽14之间。
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