浙江艾科半导体设备有限公司褚家仕获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江艾科半导体设备有限公司申请的专利一种晶圆加工工艺中用的清洗装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223970485U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-06发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520474313.4，技术领域涉及：B08B3/02；该实用新型一种晶圆加工工艺中用的清洗装置是由褚家仕;许程超;黄杰设计研发完成，并于2025-03-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种晶圆加工工艺中用的清洗装置在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种晶圆加工工艺中用的清洗装置，包括机架、清洗槽、旋转组件、若干清洗喷头以及清洗座；旋转组件安装于清洗槽的上端旋转，若干清洗喷头安装于旋转组件上并朝向清洗槽内，清洗槽的底部设有排水口；清洗座设于清洗槽内，清洗座包括托盘与液压油缸，液压油缸的伸缩杆朝上与托盘的底部固定连接，托盘的上端凹陷设有圆形的放置槽，放置槽的底部贯穿设有若干漏水孔；托盘的下端固定设有挡水罩，挡水罩围绕呈圆台状，挡水罩的上端与托盘的下端固定连接，液压油缸位于挡水罩的下方，并且液压油缸完全位于挡水罩在水平面的投影内，对液压油缸进行了基础的防水保护，避免了液压油缸沾水而快速锈蚀，延长了液压油缸的使用寿命。
本实用新型一种晶圆加工工艺中用的清洗装置在权利要求书中公布了：1.一种晶圆加工工艺中用的清洗装置，其特征在于，包括机架1、清洗槽2、旋转组件、若干清洗喷头8以及清洗座； 所述清洗槽2固定安装于机架1上，所述旋转组件安装于清洗槽2的上端旋转，若干清洗喷头8安装于旋转组件上并朝向清洗槽2内，所述清洗槽2的底部设有排水口12； 所述清洗座设于清洗槽2内，所述清洗座包括托盘3与液压油缸14，所述液压油缸14竖直安装于清洗槽2内，所述液压油缸14的伸缩杆朝上与托盘3的底部固定连接，所述托盘3的上端凹陷设有圆形的放置槽4，所述放置槽4的底部贯穿设有若干漏水孔5，所述托盘3的中心位于旋转组件的旋转轴线上； 所述托盘3的下端固定设有挡水罩13，所述挡水罩13围绕呈圆台状，所述挡水罩13的上端与托盘3的下端固定连接，所述液压油缸14位于挡水罩13的下方，并且液压油缸14完全位于挡水罩13在水平面的投影内。
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