上海森悦未来服饰科技有限公司;福建省向兴纺织科技有限公司尤莹莹获国家专利权
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龙图腾网获悉上海森悦未来服饰科技有限公司;福建省向兴纺织科技有限公司申请的专利一种三防易打理的低旦防绒面料获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223972270U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-06发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202520656323.X,技术领域涉及:B32B27/02;该实用新型一种三防易打理的低旦防绒面料是由尤莹莹;索丽芸;许振兴;张汉洪设计研发完成,并于2025-04-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种三防易打理的低旦防绒面料在说明书摘要公布了:本实用新型公开一种三防易打理的低旦防绒面料,包括由上往下设置的三防层、亲水层及面料主体层,面料主体层的经纱与纬纱均为15D‑30D的锦纶6,锦纶6的截面为4C或6C凹槽异形结构。通过三防层使面料具备防水防油防污功能,面料主体层采用截面4C或6C凹槽异形结构的锦纶6,在保证面料成品强力下降不大的前提下,可以使纤维表面形成多个凹槽,搭配亲水层可增加纤维的亲水性,使侵入或吸附在纤维内部的脏污成分在洗涤中呈现球状,由纤维的表面剥离,达到去污易打理的效果。在洗涤时锦纶6截面的多个凹槽会有一定的收缩效果,使面料更加的紧致,对面料洗后漏绒效果具有一定的提升作用,提升面料的易打理效果。
本实用新型一种三防易打理的低旦防绒面料在权利要求书中公布了:1.一种三防易打理的低旦防绒面料,其特征在于,包括由上往下设置的三防层、亲水层及面料主体层,三防层设置在面料主体层的表面,面料主体层由经纱与纬纱按照一定组织风格织造而成,经纱与纬纱均为15D-30D的锦纶6,锦纶6的截面为4C或6C凹槽异形结构。
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