上海积塔半导体有限公司丁丽真获国家专利权
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龙图腾网获悉上海积塔半导体有限公司申请的专利一种用于薄膜沉积的气体供给通路结构及薄膜沉积设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223974195U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-06发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520348629.9，技术领域涉及：C23C16/455；该实用新型一种用于薄膜沉积的气体供给通路结构及薄膜沉积设备是由丁丽真;闫晓晖;王士超;张强强;薛琬晴;靳耀乐;焦阳;沈文杰设计研发完成，并于2025-02-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于薄膜沉积的气体供给通路结构及薄膜沉积设备在说明书摘要公布了：本实用新型提供一种用于薄膜沉积的气体供给通路结构及薄膜沉积设备，所述气体供给通路结构1包括中空管状结构的主体部11和中空管状结构的长度调节部12；所述长度调节部12与所述主体部11同轴连接，且所述长度调节部12的连接部分122可拆卸连接于所述主体部11上，并通过改变所述长度调节部12的非连接部分123的长度来改变所述气体供给通路结构1的长度。长度可调的气体供给通路结构可优化其流出的气体在晶圆表面的气体分布状态，使晶圆中间位置和边缘位置的气体流量相当，实现降低晶圆表面薄膜的厚度均匀度的目的，且该方法可降低气体供给通路结构的更换频率，降低生产成本。
本实用新型一种用于薄膜沉积的气体供给通路结构及薄膜沉积设备在权利要求书中公布了：1.一种用于薄膜沉积的气体供给通路结构，其特征在于，包括中空管状结构的主体部11和中空管状结构的长度调节部12；所述长度调节部12与所述主体部11同轴连接，且所述长度调节部12的连接部分122可拆卸连接于所述主体部11上，并通过改变所述长度调节部12的非连接部分123的长度来改变所述气体供给通路结构1的长度。
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