三星电子株式会社金旻浩获国家专利权
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龙图腾网获悉三星电子株式会社申请的专利测量图案均匀性的装置和方法以及制造掩模的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113900357B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110653917.1，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权测量图案均匀性的装置和方法以及制造掩模的方法是由金旻浩;韩学承;金志泳;朴晋伯设计研发完成，并于2021-06-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本测量图案均匀性的装置和方法以及制造掩模的方法在说明书摘要公布了：提供了测量图案均匀性的装置和方法，以及通过使用该测量方法制造掩模的方法。该测量装置包括被配置为生成并输出光的光源，被配置为支撑测量目标的平台，被配置为将从光源输出的光传送到支撑在平台上的测量目标的光学系统，以及被配置为检测由测量目标反射并衍射的光或者通过穿过测量目标而衍射的光的第一检测器，其中第一检测器被配置为检测光瞳平面的光瞳图像，并且基于光瞳图像的零阶光和一阶光中的至少一个的强度来测量测量目标的阵列区域的图案均匀性。
本发明授权测量图案均匀性的装置和方法以及制造掩模的方法在权利要求书中公布了：1.一种用于基于光瞳图像来测量图案均匀性的装置，所述装置包括： 光源，被配置为生成并输出光； 平台，被配置为支撑测量目标； 光学系统，被配置为将从所述光源输出的所述光传送到在所述平台上支撑的所述测量目标；和 第一检测器，被配置为检测由所述测量目标反射并衍射或者通过穿过所述测量目标而衍射的光， 其中所述第一检测器被配置为检测光瞳平面的光瞳图像，以及基于所述光瞳图像的零阶光和一阶光中的至少一个的强度来测量所述测量目标的阵列区域的图案均匀性， 其中所述测量目标包括掩模，以及 其中基于所述阵列区域的图案，所述第一检测器的单次拍摄的尺寸针对每个掩模变化。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人三星电子株式会社，其通讯地址为：韩国京畿道；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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