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龙图腾网获悉通用医疗公司申请的专利在循环测距光学相干断层扫描中解析绝对深度获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114630616B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080077048.6，技术领域涉及：A61B5/00；该发明授权在循环测距光学相干断层扫描中解析绝对深度是由B·瓦科克;N·利波克设计研发完成，并于2020-10-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本在循环测距光学相干断层扫描中解析绝对深度在说明书摘要公布了：一种装置，包括：电磁辐射源，该电磁辐射源产生用于照射位于光路深度处的样本的辐射，电磁辐射源向样本提供辐射以促进确定样本内的光路深度；干涉仪，该干涉仪包括：参考臂，辐射的第一部分被递送到该参考臂；样本臂，辐射的第二部分被递送到该样本臂；第一光学子系统，该第一光学子系统耦合到样本臂以利用被递送到样本臂的辐射来询问样本并且收集来自样本的反向散射辐射；以及第二光学子系统，该第二光学子系统耦合到参考臂和第一光学子系统，以生成在收集的反向散射辐射与递送到参考臂的辐射之间的干涉条纹；以及数据收集和处理系统，该数据收集和处理系统与干涉仪通信，并且被配置成用于根据接收到的干涉条纹计算样本的光路深度。

本发明授权在循环测距光学相干断层扫描中解析绝对深度在权利要求书中公布了：1.一种光学装置，包括： 电磁辐射源，所述电磁辐射源产生用于照射位于光路深度处的样本的辐射， 所述电磁辐射源向所述样本提供所述辐射，以促进确定所述样本内的所述光路深度； 干涉仪，所述干涉仪包括： 参考臂，所述辐射的第一部分被递送到所述参考臂， 样本臂，所述辐射的第二部分被递送到所述样本臂， 第一光学子系统，所述第一光学子系统耦合到所述样本臂，以利用被递送到所述样本臂的所述辐射来询问所述样本，并且收集来自所述样本的反向散射辐射，以及 第二光学子系统，所述第二光学子系统耦合到所述参考臂和所述第一光学子系统，以生成在收集的反向散射辐射与递送到所述参考臂的所述辐射之间的干涉条纹；以及 数据收集和处理系统，所述数据收集和处理系统与所述干涉仪通信，并且被配置成用于根据生成的干涉条纹计算所述样本的所述光路深度， 其中所述电磁辐射源包括啁啾频率梳源，并且 其中所述数据收集和处理系统被配置用于： 分析所述干涉条纹，以生成与第一波段相关联的第一点扩散函数PSF和与不同于所述第一波段的第二波段相关联的第二PSF， 计算所述第一PSF与所述第二PSF之间的偏移，并且 基于所述偏移确定所述样本内的所述光路深度。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人通用医疗公司，其通讯地址为：美国马萨诸塞州；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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